Low-pressure uniform plasma generator based on hollow cathode for ion plasma technologies

dc.contributor.authorKhomich, V.A.
dc.contributor.authorRyabtsev, A.V.
dc.contributor.authorNazarenko, V.G.
dc.date.accessioned2023-12-08T10:57:21Z
dc.date.available2023-12-08T10:57:21Z
dc.date.issued2022
dc.description.abstractThe current paper describes the results of the improvement of a volumetric high-current low-pressure plasma generator. The device was made on the basis of a hollow cathode with a gas-magnetron ignition of the discharge and an auxiliary arc discharge for the cathode heating up to thermionic emission temperature. The device was operated at a working gas pressure of 0.1…1 Pa and had an electron concentration of 10¹⁰…5·10¹¹ cm⁻³. It was shown that the addition of the auxiliary electrode after the emission hole of the canoed unit lead to the improvement of generated plasma characteristics. This plasma generator may be used in the processes of ion-plasma technologies (oxidation, nitration in non-hydrogen media), as well as in energy-saving technologies of combined ion-plasma processing of structural materials.uk_UA
dc.description.abstractОписано результати удосконалення об’ємного сильнострумного генератора плазми низького тиску. Пристрій виготовлено на основі порожнистого катода з газомагнетронним запалюванням розряду та допоміжним дуговим розрядом для нагріву катода до температури термоелектронної емісії. Прилад працює при тиску робочого газу 0,1…1 Па і має концентрацію електронів 10¹⁰…5·10¹¹ cm⁻³. Показано, що додавання допоміжного електрода після емісійного отвору катодного вузла призводять до покращення характеристик генерованої плазми. Даний плазмогенератор може бути використаний в процесах іонно-плазмових технологій (окислення, нітрування в неводневих середовищах), а також у енергозберігаючих технологіях комбінованої іонно-плазмової обробки конструкційних матеріалів.uk_UA
dc.identifier.citationLow-pressure uniform plasma generator based on hollow cathode for ion plasma technologies / V.A. Khomich, A.V. Ryabtsev, V.G. Nazarenko // Problems of Atomic Science and Technology. — 2022. — № 6. — С. 99-102. — Бібліогр.: 11 назв. — англ.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.otherPACS: 52.80.Mg
dc.identifier.otherDOI: https://doi.org/10.46813/2022-142-099
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/195895
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofProblems of Atomic Science and Technology
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectLow temperature plasma and plasma technologiesuk_UA
dc.titleLow-pressure uniform plasma generator based on hollow cathode for ion plasma technologiesuk_UA
dc.title.alternativeГенератор однорідної плазми низького тиску на основі порожнистого катоду для іонно-плазмових технологійuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
21-Khomich.pdf
Розмір:
393.93 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: