Електропровідність дрібнокристалічних плівок міді нанометрової товщини

Abstract

В умовах надвисокого вакууму вивчено електропровідність ультратонких плівок міді, нанесених на поверхню обтопленого полірованого скла та поверхню підшару ґерманію субатомової товщини. Результати експерименту трактовано в межах сучасних теоретичних моделей квантового та класичного розмірних ефектів. Проаналізовано деякі недоліки наявних модельних уявлень, які не ураховують особливості будови реальних плівок металів, що не уможливлює досягнути надійного кількісного опису експериментальних даних.Under ultrahigh vacuum conditions, the electrical conductivity of ultrathin copper films (with thickness d15 nm) deposited on glass surface or on glass surface predeposited with germanium underlayer is investigated. Some difficulties of contemporary size-effect theories of electron-transport phenomenon are analysed. If the peculiarities of real metal-film structure are not taken into account, quantitative description of experimental data cannot be achieved.В условиях сверхвысокого вакуума изучена электропроводность ультратонких плёнок меди, сформированных на поверхности оплавленного полированного стекла и поверхности подслоя германия субатомной толщины, предварительно нанесённого на поверхность стекла. Результаты эксперимента рассмотрены в рамках современных теоретических моделей квантового и классического размерных эффектов. Проанализированы некоторые недостатки существующих модельных представлений, которые не учитывают особенности строения реальных плёнок металлов, что не позволяет достичь надёжного количественного описания экспериментальных данных.