Магнетронное формирование и применение интенсивных потоков газометаллической плазмы

dc.contributor.authorГришкевич, А.Д.
dc.contributor.authorГринюк, С.И.
dc.date.accessioned2020-12-29T17:56:33Z
dc.date.available2020-12-29T17:56:33Z
dc.date.issued2019
dc.description.abstractОсновной целью работы является разработка плазменного технологического устройства с сильноточным импульсным магнетронным разрядом (СИМР) для генерации энергетичного потока газометаллической плазмы. Плазменное технологическое устройство предназначено для комплексной упрочняющей обработки рабочих поверхностей пар трения. Упрочнение достигается поверхностной модификацией конструкционного материала високоинтенсивным низкоэнергетичным ионным азотированием с последующим нанесением наноструктурного функционального покрытия. Экспериментально подтверждено, что СИМР пригоден для генерации потока энергетичной газометаллической плазмы, что обеспечивает качественное упрочнение поверхности конструкционного материала. Плазменное технологическое устройство предназначено для выполнения всех технологических переходов ионно-плазменной обработки в едином вакуумном цикле.uk_UA
dc.description.abstractМетою роботи є розробка плазмового технологічного пристрою з потужнострумовим імпульсним магнетронним розрядом (ПІМР) для генерації енергетичного потоку газометалевої плазми. Плазмовий технологічний пристрій призначено для комплексної зміцнюючої обробки робочих поверхонь пар тертя. Зміцнення досягається поверхневою модифікацією конструкційного матеріалу високо інтенсивним низькоенергетичним іонним азотуванням з подальшим нанесенням наноструктурного функціонального покриття. Експериментально підтверджено, що ПІМР придатний до генерації потоку енергетичної газометалевої плазми, що забезпечує якісне зміцнення поверхні конструкційного матеріалу. Плазмовий технологічний пристрій призначено для виконання всіх технологічних переходів іонно-плазмової обробки в єдиному вакуумному циклі.uk_UA
dc.description.abstractThe aim of this work was to develop a plasma process device with a high-current pulsed magnetron discharge (HCPMD) for generating a high-energy gas-metal plasma flow. The device is designed for an integrated treatment of friction pair working surfaces. The strengthening is achieved by a surface modification of the structural material via high-intensity low-energy ion nitriding followed by the deposition of a nanostructured functional coating. It was shown by experiment that an HCPMD is suitable for generating a high-energy gas-metal plasma flow thus assuring a high-quality strengthening of the structural material surface. The device is designed for performing all stages of ion-plasma treatment in a single vacuum cycle.uk_UA
dc.identifier.citationМагнетронное формирование и применение интенсивных потоков газометаллической плазмы / А.Д. Гришкевич,С.И. Гринюк // Технічна механіка. — 2019. — № 2. — С. 102-112. — Бібліогр.: 23 назв. — рос.uk_UA
dc.identifier.issn1561-9184
dc.identifier.udc621.002.56
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/174044
dc.language.isoruuk_UA
dc.publisherІнститут технічної механіки НАН України і НКА Україниuk_UA
dc.relation.ispartofТехнічна механіка
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.titleМагнетронное формирование и применение интенсивных потоков газометаллической плазмыuk_UA
dc.title.alternativeМагнетронне формування й застосування інтенсивних потоків газометалевої плазмиuk_UA
dc.title.alternativeMagnetron formation and use of intensive gas-metal plasma flowsuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
10-Gryshkevych.pdf
Розмір:
226.92 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: