Формирование МОП-транзисторов с изоляцией активных элементов окисленным пористым кремнием

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.authorНовосядлый, С.П.
dc.contributor.authorВивчарук, В.М.
dc.date.accessioned2013-12-26T23:58:36Z
dc.date.available2013-12-26T23:58:36Z
dc.date.issued2009
dc.description.abstractРазработана технология горизонтальной и вертикальной изоляции элементов БИС на основе пористого кремния, исследована возможность его использования для формирования МОП-транзисторов.uk_UA
dc.description.abstractНадтонкі функціональні шари МОН-транзисторів вимагають якісної ізоляції активних елементів. Запропоновано новий метод формування епітаксійних структур для технології «кремній-на-ізоляторі» на основі пористого кремнію. Це дозволить формувати три види транзисторів - біполярні, КМОН, ДМОН.·uk_UA
dc.description.abstractThe superthin functional layers of MOS-transistors require qualitative isolation of active elements. The new method of formation of epitaksial structures for technology «silicon - on-isolator» is offered on the basis of porous silicon. It will allow to form three kinds of transistors - bipolar, SMOS, DMOS.uk_UA
dc.identifier.citationФормирование МОП-транзисторов с изоляцией активных элементов окисленным пористым кремнием / С.П. Новосядлый, В.М. Вивчарук // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 3. — С. 35-39. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.uk_UA
dc.identifier.issn2225-5818
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52062
dc.language.isoruuk_UA
dc.publisherІнститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofТехнология и конструирование в электронной аппаратуре
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectТехнологические процессы и оборудованиеuk_UA
dc.titleФормирование МОП-транзисторов с изоляцией активных элементов окисленным пористым кремниемuk_UA
dc.title.alternativeФормування МОН-транзисторів з ізоляцією активних елементів окисленим пористим кремніємuk_UA
dc.title.alternativeFormation of MOS-transistors with isolation of active elements by oxiden porous siliconuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
10-Novosiadny.pdf
Розмір:
165.8 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Завантажити

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити

Колекція

Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2009, № 3