Structure and stress state of ion-plasma hafnium condensates

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.authorVus, A.S.
dc.contributor.authorMalykhin, S.V.
dc.contributor.authorPugachev, A.T.
dc.contributor.authorReshetnyak, E.N.
dc.contributor.authorAzhazha, R.V.
dc.contributor.authorKovtun, K.V.
dc.date.accessioned2018-06-16T13:04:54Z
dc.date.available2018-06-16T13:04:54Z
dc.date.issued2007
dc.description.abstractThe 0.05-0.5 μm trick films have been obtained from GFE-1 grade hafnium target by magnetron sputtering using argon ions. Purity of the obtained films was controlled by X-ray fluorescence spectroscopy. The structure of films was explored by X-ray diffractometry. The compression residual stresses in the α-Hf films and the value of crystal lattice periods have been determined by X-ray strain measurement.uk_UA
dc.identifier.citationStructure and stress state of ion-plasma hafnium condensates / A.S. Vus, S.V. Malykhin, A.T. Pugachev, E.N. Reshetnyak, R.V. Azhazha, K.V. Kovtun // Functional Materials. — 2007. — Т. 14, № 2. — С. 204-208. — Бібліогр.: 11 назв. — англ.uk_UA
dc.identifier.issn1027-5495
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/136491
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherНТК «Інститут монокристалів» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofFunctional Materials
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.titleStructure and stress state of ion-plasma hafnium condensatesuk_UA
dc.title.alternativeСтруктура та напружений стан іонно-плазмових конденсатів гафніюuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
10-Vus.pdf
Розмір:
238.37 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Завантажити

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити

Колекція

Functional Materials, 2007, № 2