Blistering of W, Ta and W-Ta coatings under the influence of particles of low-energy hydrogen plazma

dc.contributor.authorTolstolutskaya, G.D.
dc.contributor.authorKuprin, A.S.
dc.contributor.authorVoyevodin, V.N.
dc.contributor.authorNikitin, A.V.
dc.contributor.authorOvcharenko, V.D.
dc.contributor.authorBelous, V.A.
dc.contributor.authorVasilenko, R.L.
dc.contributor.authorKopanets, I.E.
dc.date.accessioned2018-06-16T06:13:20Z
dc.date.available2018-06-16T06:13:20Z
dc.date.issued2017
dc.description.abstractThe surface topography and deuterium retention in W, Ta and W-Ta coatings under the influence of low-energy deuterium plasma was studied. It was observed formation of blisters as dome and burst or delaminated structures. The W-Ta coatings showed improved characteristics: smaller sizes and density of blisters and a significantly lower thickness of the delaminated layer.uk_UA
dc.description.abstractВивчено зміну топографії поверхонь покриттів W, Ta і W-Ta і вміст дейтерію під дією частинок низькоенергетичної водневої плазми. Спостерігалося утворення блістерів куполоподібної форми, відшарування та лущення. Покриття W-Ta показали поліпшені характеристики: менші розміри і знижену густину блістерів і значно меншу товщину відшарованого шару.uk_UA
dc.description.abstractИзучены изменение топографии поверхности покрытий W, Ta и W-Ta и накопление дейтерия под действием частиц низкоэнергетической дейтериевой плазмы. Наблюдалось образование блистеров куполообразной формы, отслаивание и шелушение. Покрытия W-Ta показали улучшенные характеристики: меньшие размеры и плотность блистеров и значительно уменьшенную толщину отслаиваемого слоя.uk_UA
dc.identifier.citationBlistering of W, Ta and W-Ta coatings under the influence of particles of low-energy hydrogen plazma / G.D. Tolstolutskaya, A.S. Kuprin, V.N. Voyevodin, A.V. Nikitin, V.D. Ovcharenko, V.A. Belous, R.L. Vasilenko, I.E. Kopanets // Вопросы атомной науки и техники. — 2017. — № 5. — С. 83-90. — Бібліогр.: 26 назв. — англ.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.udc669.017:539.16
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/136153
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectФизика радиационных и ионно-плазменных технологийuk_UA
dc.titleBlistering of W, Ta and W-Ta coatings under the influence of particles of low-energy hydrogen plazmauk_UA
dc.title.alternativeБлістерінг W-, Та- і W-Та-покриттів під дією потоку частинок низькоенергетичної водневої плазмиuk_UA
dc.title.alternativeБлистеринг W-, Ta- и W-Ta-покрытий при воздействии потоками частиц низкоэнергетичной водородной плазмыuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
14-Tolstolutskaya.pdf
Розмір:
814.35 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: