Electrostatic Field Tensities near Irregularities of Porous Silicon Surface

dc.contributor.authorTerebinska, M.I.
dc.contributor.authorLobanov, V.V.
dc.contributor.authorGrebenyuk, A.G.
dc.date.accessioned2011-11-27T16:02:36Z
dc.date.available2011-11-27T16:02:36Z
dc.date.issued2010
dc.description.abstractEquilibrium spatial structure of the Si89(OH)43H*36 cluster model simulated for a pyramid-like formation on porous silicon surface has been calculated within the frameworks of density functional theory method with 6-31G** basis set. The electron charge and electrostatic field distribution have been evaluated in the vicinity of such a formation. The electrostatic field tensity has been found to be great enough to ionize adsorbed organic molecules.uk_UA
dc.description.abstractМетодом функціоналу електронної густини з використанням базисного набору 6-31 G** розраховано рівноважну просторову будову кластерної моделі складу Si89(OH)43H*36 для пірамідального утворення на поверхні поруватого силіцію. Одержано розподіл електронного заряду та електростатичного поля в околі такого утворення. Виявлено, що напруженість електростатичного поля достатня для іонізації адсорбованих органічних молекул.uk_UA
dc.description.abstractМетодом функционала электронной плотности с использованием базисного набора 6-31 G** рассчитано равновесное пространственное строение кластерной модели состава Si89(OH)43H*36 для пирамидального образования на поверхности пористого кремния. Получено распределение электронного заряда и электростатического поля вблизи такого образования. Обнаружено, что напряженность электростатического поля достаточна для ионизации адсорбированных органических молекул.uk_UA
dc.identifier.citationElectrostatic Field Tensities near Irregularities of Porous Silicon Surface / M.I. Terebinska, V.V. Lobanov, A.G. Grebenyuk // Хімія, фізика та технологія поверхні. — 2010. — Т. 1, № 3. — С. 235-237. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.uk_UA
dc.identifier.issn2079-1704
dc.identifier.udc544.723
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/28983
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherІнститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofХімія, фізика та технологія поверхні
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectТеорія хімічної будови, реакційної здатності та хімічного модифікування поверхні твердих тілuk_UA
dc.titleElectrostatic Field Tensities near Irregularities of Porous Silicon Surfaceuk_UA
dc.title.alternativeНапруженість електростатичного поля в околі неоднорідностей на поверхні поруватого силіціюuk_UA
dc.title.alternativeНапряженность электростатического поля вблизи неоднородностей на поверхности пористого кремнияuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
03-Terebinska.pdf
Розмір:
474.96 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
929 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: