Effect of increasing surface roughness on sputtering and reflection
dc.contributor.author | Bizyukov, I. | |
dc.contributor.author | Mutzke, A. | |
dc.contributor.author | Schneider, R. | |
dc.date.accessioned | 2016-11-20T21:40:13Z | |
dc.date.available | 2016-11-20T21:40:13Z | |
dc.date.issued | 2012 | |
dc.description.abstract | In this work, the SDTrimSP-2D code was used for numerical simulation of the interaction of ions with a 2D periodical structure as idealized test system to investigate the influence of surface roughness on sputtering. Sputtering yield and reflection coefficient have been studied as a function of the size of the pitch grating structure. Simulations show that the most important changes in ion-surface interactions occur when the structure size gets approximately equal to the size of the collisional cascade.. | uk_UA |
dc.description.abstract | Код SDTrimSP-2D использовался для моделирования взаимодействия ионов с двухмерной поверхностью, которая взята в качестве идеализированной тестовой системы для исследования влияния шероховатости. Коэффициенты распыления и отражения изучались как функции характерного размера структуры дифракционной решетки. Моделирование показало, что наиболее важные изменения во взаимодействии ионов с поверхностью происходят тогда, когда размер структуры приблизительно равен размеру столкновительного каскада. | uk_UA |
dc.description.abstract | Код SDTrimSP-2D використовувався для моделювання взаємодії іонів з двомірною поверхнею, яка обрана у якості ідеалізованої тестової системи для дослідження впливу шорсткості. Коефіцієнти розпилення і відбиття вивчалися як функціі характерного розміру структури дифракційної решітки. Моделювання показало, що найбільш важливі зміни у взаємодії іонів з поверхнею відбуваються тоді, коли розмір структури приблизно дорівнює розміру каскаду зіткнень. | uk_UA |
dc.identifier.citation | Effect of increasing surface roughness on sputtering and reflection / I. Bizyukov, A. Mutzke, R. Schneider // Вопросы атомной науки и техники. — 2012. — № 6. — С. 111-113. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. | uk_UA |
dc.identifier.issn | 1562-6016 | |
dc.identifier.other | PACS: 79.20 Rf | |
dc.identifier.uri | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/109143 | |
dc.language.iso | en | uk_UA |
dc.publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України | uk_UA |
dc.relation.ispartof | Вопросы атомной науки и техники | |
dc.status | published earlier | uk_UA |
dc.subject | Динамика плазмы и взаимодействие плазмы со стенкой | uk_UA |
dc.title | Effect of increasing surface roughness on sputtering and reflection | uk_UA |
dc.title.alternative | Влияние шероховатости поверхности на распыление и отражение | uk_UA |
dc.title.alternative | Вплив шорсткості поверхні на розпилення та відбиття | uk_UA |
dc.type | Article | uk_UA |
Файли
Оригінальний контейнер
1 - 1 з 1
Завантаження...
- Назва:
- 33-Bizyukov.pdf
- Розмір:
- 316.73 KB
- Формат:
- Adobe Portable Document Format
Контейнер ліцензії
1 - 1 з 1
Завантаження...
- Назва:
- license.txt
- Розмір:
- 817 B
- Формат:
- Item-specific license agreed upon to submission
- Опис: