Effect of increasing surface roughness on sputtering and reflection

dc.contributor.authorBizyukov, I.
dc.contributor.authorMutzke, A.
dc.contributor.authorSchneider, R.
dc.date.accessioned2016-11-20T21:40:13Z
dc.date.available2016-11-20T21:40:13Z
dc.date.issued2012
dc.description.abstractIn this work, the SDTrimSP-2D code was used for numerical simulation of the interaction of ions with a 2D periodical structure as idealized test system to investigate the influence of surface roughness on sputtering. Sputtering yield and reflection coefficient have been studied as a function of the size of the pitch grating structure. Simulations show that the most important changes in ion-surface interactions occur when the structure size gets approximately equal to the size of the collisional cascade..uk_UA
dc.description.abstractКод SDTrimSP-2D использовался для моделирования взаимодействия ионов с двухмерной поверхностью, которая взята в качестве идеализированной тестовой системы для исследования влияния шероховатости. Коэффициенты распыления и отражения изучались как функции характерного размера структуры дифракционной решетки. Моделирование показало, что наиболее важные изменения во взаимодействии ионов с поверхностью происходят тогда, когда размер структуры приблизительно равен размеру столкновительного каскада.uk_UA
dc.description.abstractКод SDTrimSP-2D використовувався для моделювання взаємодії іонів з двомірною поверхнею, яка обрана у якості ідеалізованої тестової системи для дослідження впливу шорсткості. Коефіцієнти розпилення і відбиття вивчалися як функціі характерного розміру структури дифракційної решітки. Моделювання показало, що найбільш важливі зміни у взаємодії іонів з поверхнею відбуваються тоді, коли розмір структури приблизно дорівнює розміру каскаду зіткнень.uk_UA
dc.identifier.citationEffect of increasing surface roughness on sputtering and reflection / I. Bizyukov, A. Mutzke, R. Schneider // Вопросы атомной науки и техники. — 2012. — № 6. — С. 111-113. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.otherPACS: 79.20 Rf
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/109143
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectДинамика плазмы и взаимодействие плазмы со стенкойuk_UA
dc.titleEffect of increasing surface roughness on sputtering and reflectionuk_UA
dc.title.alternativeВлияние шероховатости поверхности на распыление и отражениеuk_UA
dc.title.alternativeВплив шорсткості поверхні на розпилення та відбиттяuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
33-Bizyukov.pdf
Розмір:
316.73 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: