Optical properties of silicon carbide obtained by direct ion deposition

dc.contributor.authorLopin, A.V.
dc.contributor.authorSemenov, A.V.
dc.contributor.authorPuzikov, V.M.
dc.contributor.authorTrushkovsky, A.G.
dc.date.accessioned2018-06-14T14:50:25Z
dc.date.available2018-06-14T14:50:25Z
dc.date.issued2006
dc.description.abstractOptical transmission, absorption and reflection spectra of silicon carbide thin films deposited on sapphire substrate from the carbon and silicon ionic flows have been investigated. The films have been obtained at various deposition paramenters, i.e., under variation of ion energy and substrate temperature. The behavior of optical characteristics of silicon-carbide films depending on influence of changes in technological parameters. It has been shown that direct ion deposition method provides a control of film optical parameters within a wide range.uk_UA
dc.identifier.citationOptical properties of silicon carbide obtained by direct ion deposition / A.V. Lopin, A.V. Semenov, V.M. Puzikov, A.G. Trushkovsky // Functional Materials. — 2006. — Т. 13, № 4. — С. 631-636. — Бібліогр.: 9 назв. — англ.uk_UA
dc.identifier.issn1027-5495
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/135067
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherНТК «Інститут монокристалів» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofFunctional Materials
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.titleOptical properties of silicon carbide obtained by direct ion depositionuk_UA
dc.title.alternativeОптичні властивості плівок карбіду кремнію, одержаних методом прямого іонного осадженняuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
16-Lopin.pdf
Розмір:
267.92 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: