Deposition of TiN-based coatings using vacuum arc plasma in increased negative substrate bias voltage

dc.contributor.authorKuprin, A.S.
dc.contributor.authorLeonov, S.A.
dc.contributor.authorOvcharenko, V.D.
dc.contributor.authorReshetnyak, E.N.
dc.contributor.authorBelous, V.A.
dc.contributor.authorVasilenko, R.L.
dc.contributor.authorTolmachova, G.N.
dc.contributor.authorKovalenko, V.I.
dc.contributor.authorKlimenko, I.O.
dc.date.accessioned2023-12-03T15:30:52Z
dc.date.available2023-12-03T15:30:52Z
dc.date.issued2019
dc.description.abstractThe paper presents the results of the study on the influence of a high substrate bias voltage from 300 up to 1300 V on the titanium nitride coating deposition under nitrogen pressure of 2 Pa. The deposition rate, phase and chemical composition, adhesion and mechanical properties of coatings, macroparticle number and size distribution were investigated.uk_UA
dc.description.abstractПредставлені результати дослідження впливу високої напруги зсуву підкладки від 300 до 1300 В на осадження покриттів нітриду титану при тиску азоту 2 Па. Вивчені швидкість осадження, фазовий і хімічний склад, адгезія і механічні властивості покриттів, кількість і розподіл за розмірами макрочасток.uk_UA
dc.description.abstractПредставлены результаты исследования влияния высокого напряжения смещения подложки от 300 до 1300 В на осаждение покрытий нитрида титана при давлении азота 2 Па. Изучены скорость осаждения, фазовый и химический составы, адгезия и механические свойства покрытий, количество и распределение по размерам макрочастиц.uk_UA
dc.identifier.citationDeposition of TiN-based coatings using vacuum arc plasma in increased negative substrate bias voltage / A.S. Kuprin, S.A. Leonov, V.D. Ovcharenko, E.N. Reshetnyak, V.A. Belous, R.L. Vasilenko, G.N. Tolmachova, V.I. Kovalenko, I.O. Klimenko // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 5. — С. 154-160. — Бібліогр.: 29 назв. — англ.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.udc669.056.9
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/195216
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectPhysics of radiotechnology and ion-plasma technologiesuk_UA
dc.titleDeposition of TiN-based coatings using vacuum arc plasma in increased negative substrate bias voltageuk_UA
dc.title.alternativeОсадження TiN-покриттів з використанням вакуумно-дугової плазми при підвищеній негативній напрузі підкладкиuk_UA
dc.title.alternativeОсаждение TiN-покрытий с использованием вакуумно-дуговой плазмы при повышенном отрицательном напряжении подложкиuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
27-Kuprin.pdf
Розмір:
916.42 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: