Deposition of TiN-based coatings using vacuum arc plasma in increased negative substrate bias voltage
dc.contributor.author | Kuprin, A.S. | |
dc.contributor.author | Leonov, S.A. | |
dc.contributor.author | Ovcharenko, V.D. | |
dc.contributor.author | Reshetnyak, E.N. | |
dc.contributor.author | Belous, V.A. | |
dc.contributor.author | Vasilenko, R.L. | |
dc.contributor.author | Tolmachova, G.N. | |
dc.contributor.author | Kovalenko, V.I. | |
dc.contributor.author | Klimenko, I.O. | |
dc.date.accessioned | 2023-12-03T15:30:52Z | |
dc.date.available | 2023-12-03T15:30:52Z | |
dc.date.issued | 2019 | |
dc.description.abstract | The paper presents the results of the study on the influence of a high substrate bias voltage from 300 up to 1300 V on the titanium nitride coating deposition under nitrogen pressure of 2 Pa. The deposition rate, phase and chemical composition, adhesion and mechanical properties of coatings, macroparticle number and size distribution were investigated. | uk_UA |
dc.description.abstract | Представлені результати дослідження впливу високої напруги зсуву підкладки від 300 до 1300 В на осадження покриттів нітриду титану при тиску азоту 2 Па. Вивчені швидкість осадження, фазовий і хімічний склад, адгезія і механічні властивості покриттів, кількість і розподіл за розмірами макрочасток. | uk_UA |
dc.description.abstract | Представлены результаты исследования влияния высокого напряжения смещения подложки от 300 до 1300 В на осаждение покрытий нитрида титана при давлении азота 2 Па. Изучены скорость осаждения, фазовый и химический составы, адгезия и механические свойства покрытий, количество и распределение по размерам макрочастиц. | uk_UA |
dc.identifier.citation | Deposition of TiN-based coatings using vacuum arc plasma in increased negative substrate bias voltage / A.S. Kuprin, S.A. Leonov, V.D. Ovcharenko, E.N. Reshetnyak, V.A. Belous, R.L. Vasilenko, G.N. Tolmachova, V.I. Kovalenko, I.O. Klimenko // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 5. — С. 154-160. — Бібліогр.: 29 назв. — англ. | uk_UA |
dc.identifier.issn | 1562-6016 | |
dc.identifier.udc | 669.056.9 | |
dc.identifier.uri | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/195216 | |
dc.language.iso | en | uk_UA |
dc.publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України | uk_UA |
dc.relation.ispartof | Вопросы атомной науки и техники | |
dc.status | published earlier | uk_UA |
dc.subject | Physics of radiotechnology and ion-plasma technologies | uk_UA |
dc.title | Deposition of TiN-based coatings using vacuum arc plasma in increased negative substrate bias voltage | uk_UA |
dc.title.alternative | Осадження TiN-покриттів з використанням вакуумно-дугової плазми при підвищеній негативній напрузі підкладки | uk_UA |
dc.title.alternative | Осаждение TiN-покрытий с использованием вакуумно-дуговой плазмы при повышенном отрицательном напряжении подложки | uk_UA |
dc.type | Article | uk_UA |
Файли
Оригінальний контейнер
1 - 1 з 1
Контейнер ліцензії
1 - 1 з 1
Завантаження...
- Назва:
- license.txt
- Розмір:
- 817 B
- Формат:
- Item-specific license agreed upon to submission
- Опис: