Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration

dc.contributor.authorChunadra, А.G.
dc.contributor.authorSereda, К.N.
dc.contributor.authorTarasov, I.K.
dc.contributor.authorMakhlai, V.A.
dc.date.accessioned2023-11-29T15:08:44Z
dc.date.available2023-11-29T15:08:44Z
dc.date.issued2021
dc.description.abstractThis work is devoted to measuring the function of the distribution of charged particles of gas-discharge plasma in a magnetron sputtering system under conditions of non-potential “earth”. Measurements are carried out with the help of a three-electrode probe, which is installed in the cathode sputtering zone, with unsafe electrodes and housing. The selection of the analyzed particles was carried out through a screen located under floating potential. Effect of additional magnetic insulation anode of MSS МАG-5 on ion and electron distribution functions was investigated.uk_UA
dc.description.abstractРобота присвячена вимірюванню функції розподілу заряджених частинок газорозрядної плазми в магнетронній розпорошувальній системі в умовах непотенційної «землі». Вимірювання проведені за допомогою триелектродного зонду, який встановлено в зоні катодного розпилення, з незаземленими електродами і корпусом. Відбір досліджуваних частинок проводили через екран, розташований під плаваючим потенціалом. Досліджено вплив додаткової магнітоізоляції анода МРС МАГ-5 на функції розподілу іонів та електронів.uk_UA
dc.description.abstractРабота посвящена измерению функции распределения заряженных частиц газоразрядной плазмы в магнетронной распылительной системе в условиях непотенциальной «земли». Измерения проведены с помощью триэлектродного зонда, расположенного в зоне катодного распыления, с незаземленными электродами и корпусом. Отбор исследуемых частиц проводили через экран, находящийся под плавающим потенциалом. Исследовано влияние дополнительной магнитоизоляции анода МРС МАГ-5 на функции распределения ионов и электронов.uk_UA
dc.identifier.citationControl of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration / А.G. Chunadra, К.N. Sereda, I.K. Tarasov, V.A. Makhlai // Problems of atomic science and tecnology. — 2021. — № 1. — С. 102-105. — Бібліогр.: 7 назв. — англ.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.otherPACS: 51.50.+v, 52.25.Jm
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194765
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectLow temperature plasma and plasma technologiesuk_UA
dc.titleControl of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configurationuk_UA
dc.title.alternativeКерування процесами іонізації в магнетронній розпорошувальній системі зміною конфігурацій магнітного поляuk_UA
dc.title.alternativeУправление процессами ионизации в магнетронной распылительной системе сменой конфигураций магнитного поляuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
21-Chunadra.pdf
Розмір:
415.44 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: