Intrinsic stress formation in multi-component coatings produced by plasma ion deposition in modes of DC and pulse bias potentials

dc.contributor.authorKalinichenko, A.I.
dc.contributor.authorKozionov, S.A.
dc.contributor.authorStrelnitskij, V.E.
dc.date.accessioned2017-01-14T10:35:54Z
dc.date.available2017-01-14T10:35:54Z
dc.date.issued2016
dc.description.abstractIn the model of nonlocal thermoelastic peak of low-energy ion a formula for intrinsic stress in multi-component material deposited from mixed beam of differently charged ions in modes of DC and pulse bias potentials is derived. Calculation of intrinsic stress σ depending on bias potential U in coating Cr-Al-N deposited from mixed ion beam Cr(50%)Al(50%) is executed at different modes and substrate temperatures T₀. It is shown that maximum of σ(U) in pulse bias potential mode shifts towards higher U as compared with DC mode whereas increase of T₀ leads to opposite effect.uk_UA
dc.description.abstractУ рамках моделі нелокального термопружного піка низькоенергетичного іона отримана формула для внутрішніх напружень у багатокомпонентному матеріалі, що осаджується зі змішаного пучка різнозаряджених іонів у режимах постійного й імпульсного потенціалів. Проведено розрахунок залежності внутрішніх напружень σ від потенціалу зміщення U у покритті Cr-Al-N, що осаджується зі змішаного потоку Cr(50%)Al(50%) іонів при різних режимах і температурах осадження T₀. Показано. що в режимі імпульсного потенціалу максимум кривої σ(U) зміщується у бік більших значень U, у порівнянні з режимом постійного потенціалу. Підвищення T₀ веде до зворотного ефекту.uk_UA
dc.description.abstractВ рамках модели нелокального термоупругого пика низкоэнергетического иона получена формула для внутренних напряжений в многокомпонентном материале, осаждаемом из смешанного пучка разнозаряженных ионов в режимах постоянного и импульсного потенциалов. Проведен расчет зависимости внутренних напряжений σ от потенциала смещения U в покрытии Cr-Al-N, осаждаемом из смешанного потока Cr(50%)Al(50%) ионов при различных режимах и температурах осаждения T₀. Показано, что в режиме импульсного потенциала максимум кривой σ(U) смещается в сторону больших значений U, по сравнению с режимом постоянного потенциала. Повышение T₀ ведет к обратному эффекту.uk_UA
dc.identifier.citationIntrinsic stress formation in multi-component coatings produced by plasma ion deposition in modes of DC and pulse bias potentials / A.I. Kalinichenko, S.A. Kozionov, V.E. Strelnitskij // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 1. — С. 149-153. — Бібліогр.: 11 назв. — англ.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.otherPACS: 52.77.Dq, 81.15.Jj
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111764
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectФизика и технология конструкционных материаловuk_UA
dc.titleIntrinsic stress formation in multi-component coatings produced by plasma ion deposition in modes of DC and pulse bias potentialsuk_UA
dc.title.alternativeФормування внутрішніх напружень у багатокомпонентних покриттях, що осаджуються в режимах, постійного й імпульсного потенціалів зміщенняuk_UA
dc.title.alternativeФормирование внутренних напряжений в многокомпонентных покрытиях, осаждаемых в режимах постоянного и импульсного потенциалов смещенияuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
29-Kalinichenko.pdf
Розмір:
542.23 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: