Структура плівок ванадію на підкладинках SiO₂(001), MgO(100), Al₂O₃(0001), SrTiO₃(100) та особливості їх термічного окиснення

Abstract

Досліджено структуру тонких плівок ванадію на різних монокристалічних підкладинках V(25 нм)/SiO₂(001), V(25 нм)/MgO(100), V(25 нм)/Al₂O₃(0001), V(25 нм)/SrTiO₃(100) у вихідному стані та при відпалі до температури у 600°C у вакуумі 10⁻³ Па.

Исследуется структура тонких плёнок ванадия на различных монокристаллических подложках V(25 нм)/SiO₂(001), V(25 нм)/MgO(100), V(25 нм)/Al₂O₃(0001), V(25 нм)/SrTiO₃(100) в исходном состоянии и при отжиге до температуры 600°C в вакууме 10⁻³ Па.

The structures of thin V(25 nm)/SiO₂(001), V(25 nm)/MgO(100), V(25 nm)/Al₂O₃(0001), V(25 nm)/SrTiO₃(100) films on different monocrystalline substrates are studied in the initial state and under annealing up to 600°C in vacuum of 10⁻³ Pa.