Formation of the electron beamin a secondaryemission magnetron gun its starting by anodulum high-voltage pulse

dc.contributor.authorAyzatsky, N.I.
dc.contributor.authorDovbnya, A.N.
dc.contributor.authorMazmanishvili, A.S.
dc.contributor.authorReshetnyak, N.G.
dc.contributor.authorRomas’ko, V.P.
dc.contributor.authorChertishchev, I.A.
dc.date.accessioned2019-02-13T19:44:19Z
dc.date.available2019-02-13T19:44:19Z
dc.date.issued2018
dc.description.abstractThe results of a study on the formation of an electron beam by a magnetron gun with a secondary-emission cathode (cathode diameter 36 mm, an anode 78 mm) in the voltage range 25...90 kV are presented. The secondaryemission process in the gun is triggered by a voltage pulse with an amplitude of up to 16 kV applied to its anode. The generation of an electron beam is investigated as a function of the voltage of the incoming pulse. The dependence of the onset of electron beam generation on the beginning of the decay of the triggering pulse with its positive and negative polarity is studied. The dependence of the formation of the electron beam on the time of the secondary emission on the flat part of the voltage pulse was investigated.uk_UA
dc.description.abstractПредставлені результати дослідження щодо формування електронного пучка магнетронною гарматою з вторинноемісійним катодом (діаметр катода 36 мм, анода 78 мм) у діапазоні напруг 25...90 кВ. Запуск вторинно-емісійного процесу в гарматі здійснюється імпульсом напруги амплітудою до 16 кВ, що подається на її анод. Проведено дослідження генерації електронного пучка в залежності від напруги запускаючого імпульсу. Досліджена залежність початку генерації електронного пучка від початку спаду запускаючого імпульсу при його позитивній і негативній полярностях. Досліджена залежність формування електронного пучка від часу подачі імпульсу запуску вторинної емісії на плоску частину імпульсу напруги.uk_UA
dc.description.abstractПредставлены результаты исследования по формированию электронного пучка магнетронной пушкой с вторичноэмиссионным катодом (диаметр катода 36 мм, анода 78 мм) в диапазоне напряжений 25..90 кВ. Запуск вторичноэмиссионного процесса в пушке осуществляется импульсом напряжения амплитудой до 16 кВ, подаваемым на её анод. Проведено исследование генерации электронного пучка в зависимости от напряжения запускающего импульса. Исследована зависимость начала генерации электронного пучка от начала спада запускающего импульса при его положительной и отрицательной полярностях. Исследована зависимость формирования электронного пучка от времени подачи импульса запуска вторичной эмиссии на плоскую часть импульса напряжения.uk_UA
dc.identifier.citationFormation of the electron beamin a secondaryemission magnetron gun its starting by anodulum high-voltage pulse / N.I. Ayzatsky, A.N. Dovbnya, A.S. Mazmanishvili, N.G. Reshetnyak, V.P. Romas’ko, I.A. Chertishchev // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 3. — С. 19-23. — Бібліогр.: 8 назв. — англ.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.otherPACS: 29.27.Fh
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/147241
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectТеория и техника ускорения частицuk_UA
dc.titleFormation of the electron beamin a secondaryemission magnetron gun its starting by anodulum high-voltage pulseuk_UA
dc.title.alternativeФормування електронного пучка у вторинно-емісійній магнетронній гарматі при її запуску анодним високовольтним імпульсомuk_UA
dc.title.alternativeФормирование электронного пучка во вторично-эмиссионной магнетронной пушке при её запуске анодным высоковольлтным импульсомuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
05-Ayzatsky.pdf
Розмір:
703.58 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: