Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation

dc.contributor.authorPugatch, V.M.
dc.contributor.authorPerevertaylo, V.L.
dc.contributor.authorFedorovich, O.A.
dc.contributor.authorBorisenko, A.G.
dc.contributor.authorKostin, E.G.
dc.contributor.authorKruglenko, M.P.
dc.contributor.authorPolozov, B.P.
dc.contributor.authorTarasenko, L.I.
dc.date.accessioned2017-01-04T17:08:13Z
dc.date.available2017-01-04T17:08:13Z
dc.date.issued2007
dc.description.abstractThe manufacturing of elements of micro-strip metal detectors (MSMD) for ionizing radiation applying plasma-chemistry technologies for etching of multilayer structures is described in details. Results obtained by using plasma-chemistry technologies for MSMD production as well as its advantages in comparison with a wet chemical etching, problems arising and possible ways of their elimination are presented.uk_UA
dc.description.abstractПриведено детальний опис технології виготовлення елементів мікростріпових металевих детекторів іонізуючого випромінювання (МСМД) з застосуванням плазмохімічного травлення багатошарових структур. Представлено результати застосування плазмохімічної технології виготовлення МСМД, її переваги перед хімічним травленням, а також виникаючі при цьому проблеми та можливі шляхи їх усунення.uk_UA
dc.description.abstractПриводится подробное описание изготовления элементов микростриповых металлических детекторов (МСМД) ионизирующих излучений с использованием плазмохимической технологии травления многослойных структур. Показаны результаты использования плазмохимии в технологии изготовления МСМД, её преимущества в сравнении с применением химического травления, а также возникающие при этом проблемы и возможные пути их устранения.uk_UA
dc.identifier.citationPlasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation / V.M. Pugatch, V.L. Perevertaylo, O.A. Fedorovich, A.G. Borisenko, E.G. Kostin, M.P. Kruglenko, B.P. Polozov, L.I. Tarasenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 173-175. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.otherPACS: 52.77.Bn, 81.65.Cf, 85.40.-e, 85.40.Hp
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110503
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectLow temperature plasma and plasma technologiesuk_UA
dc.titlePlasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiationuk_UA
dc.title.alternativeПлазмові технології виготовлення мікростріпових металевих детекторів іонізуючого випромінюванняuk_UA
dc.title.alternativeПлазменные технологии изготовления микростриповых металлических детекторов ионизирующих излученийuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
57-Puhach.pdf
Розмір:
152.78 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: