Modernized equipment for plasmachemical etching of insulation of p-n transition of photoelectric converters

dc.contributor.authorFedorovich, O.A.
dc.contributor.authorKruglenko, M.P.
dc.contributor.authorLukomskij, D.V.
dc.contributor.authorMarinenko, A.A.
dc.contributor.authorPolozov, B.P.
dc.date.accessioned2017-01-04T20:05:16Z
dc.date.available2017-01-04T20:05:16Z
dc.date.issued2007
dc.description.abstractBasic problems arising at the processing of the insulation of p-n transition of photo converters at the conditions of batch production with the use of the industrial plant "Carter" are determined. The way of elimination of these problems is shown. The modernized plant "Carter" has an advantage over their foreign analogues.uk_UA
dc.description.abstractВизначені основні проблеми, які виникають при проведенні процесу ізоляції емітерного р-n переходу фотоелектричних перетворювачів в умовах їхнього серійного виробництва на промисловому приладі "Картер". Продемонстровано шлях усунення цих проблем. Наведені переваги модернізованого приладу "Картер" перед його іноземним аналогом при промисловому виробництві кремнієвих фотоелектричних перетворювачів.uk_UA
dc.description.abstractОпределены основные проблемы, возникающие при проведении процесса изоляции эмиттерного р-n перехода фотоэлектрических преобразователей в условиях их серийного производства на промышленной установке "Картер". Продемонстрирован путь устранения этих проблем. Приведены преимущества модернизированной установки типа "Картер" перед ее зарубежным аналогом при промышленном производстве кремниевых фотоэлектрических преобразователей.uk_UA
dc.identifier.citationModernized equipment for plasmachemical etching of insulation of p-n transition of photoelectric converters/ O.A. Fedorovich, M.P. Kruglenko, D.V. Lukomskij, A.A. Marinenko, B.P. Polozov // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 203-205. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.otherPACS: 52.77.Bn, 81.65.Cf
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110578
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectLow temperature plasma and plasma technologiesuk_UA
dc.titleModernized equipment for plasmachemical etching of insulation of p-n transition of photoelectric convertersuk_UA
dc.title.alternativeМодернізоване обладнання для плазмохімічного травлення ізоляції p-n переходу фотоелектричних перетворювачівuk_UA
dc.title.alternativeМодернизированное оборудование для плазмохимического травления изоляции p-n перехода фотоэлектрических преобразователейuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
67-Fedorovich.pdf
Розмір:
243.94 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: