Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.authorФедорович, О.А.
dc.contributor.authorКругленко, М.П.
dc.contributor.authorПолозов, Б.П.
dc.date.accessioned2013-12-29T22:21:48Z
dc.date.available2013-12-29T22:21:48Z
dc.date.issued2009
dc.description.abstractВыбраны оптимальные режимы плазмохимического травления торцов пластин в реакторе, разработанном в ИЯИ, который по производительности превосходит лучший зарубежный аналог при более высоком качестве обработки пластин.uk_UA
dc.identifier.citationОсобенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей / О.А. Федорович, М.П. Кругленко, Б.П. Полозов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 6. — С. 46-49. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.uk_UA
dc.identifier.issn2225-5818
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52331
dc.language.isoruuk_UA
dc.publisherІнститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofТехнология и конструирование в электронной аппаратуре
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectТехнологические процессы и оборудованиеuk_UA
dc.titleОсобенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователейuk_UA
dc.title.alternativeОсобливості плазмохімічного травлення торців кремнієвих пластин для фотоелектричних перетворювачівuk_UA
dc.title.alternativePeculiarity of plasmachemical etching of silicon plate edges of photoelectric convertersuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
10-Fedorovich.pdf
Розмір:
124.61 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Завантажити

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити

Колекція

Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2009, № 6