Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.authorFamakinwa, T.
dc.contributor.authorIkezawa, S.
dc.contributor.authorHomyara, H.
dc.contributor.authorYoshioka, T.
dc.contributor.authorNakamura, K.
dc.contributor.authorNinomiya, Y.
dc.contributor.authorOda, H.
dc.contributor.authorHara, T.
dc.contributor.authorHori, M.
dc.contributor.authorFujii, S.
dc.contributor.authorYoshimura, K.
dc.contributor.authorTaoda, H.
dc.date.accessioned2015-05-29T07:56:55Z
dc.date.available2015-05-29T07:56:55Z
dc.date.issued2000
dc.identifier.citationIndustrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size / T. Famakinwa, S. Ikezawa, H. Homyara, T. Yoshioka, K. Nakamura, Y. Ninomiya, H. Oda, T. Hara, M. Hori, S. Fujii, K. Yoshimura and H. Taoda // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 3. — С. 159-161. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.udc533.9
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82384
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectLow Temperature Plasma and Plasma Technologiesuk_UA
dc.titleIndustrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-sizeuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
49-Ikezawa.pdf
Розмір:
1.08 MB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Завантажити

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити

Колекція

Вопросы атомной науки и техники, 2000, № 3