Пучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактора

dc.contributor.authorШустин, Е.Г.
dc.contributor.authorИсаев, Н.В.
dc.contributor.authorТемирязева, М.П.
dc.contributor.authorТараканов, В.П.
dc.contributor.authorФедоров, Ю.В.
dc.date.accessioned2017-01-04T19:50:23Z
dc.date.available2017-01-04T19:50:23Z
dc.date.issued2008
dc.description.abstractПредставлен обзор свойств пучково-плазменного разряда, позволяющих использовать его в качестве плазменного реактора для низкоэнергетического травления поверхности полупроводниковых материалов. Проведены эксперименты по изучению функции распределения ионов на периферии пучково-плазменного разряда и на поверхности образца, подвергаемого травлению. На основе компьютерных и физических экспериментов разработаны способы и технические средства управления энергией и плотностью ионного потока. Определены основные технологические характеристики режимов травления гетероструктур на основе арсенида галлия. Обсуждаются проблемы построения теории пучково-плазменного разряда в замкнутой системе.uk_UA
dc.description.abstractПредставлено огляд властивостей пучково-плазмового розряду, що дозволяють використовувати його в якості плазмового реактора для низькоенергетичного травлення поверхні напівпровідникових матеріалів. Проведено експерименти по вивченню функції розподілу іонів на периферії пучково-плазмового розряду і на поверхні зразка, що піддається травленню На основі комп'ютерних і фізичних експериментів розроблені способи і технічні засоби керування енергією і щільністю іонного потоку. Визначено основні технологічні характеристики режимів травлення гетероструктур на основі арсеніду галію. Обговорюються проблеми побудови теорії пучково-плазмового розряду в замкнутій системі.uk_UA
dc.description.abstractThe review of properties of beam plasma discharge (BPD) permitting to use it as plasma processing reactor for low energy etching of a surface of semiconducting materials is submitted. The experiments on learning a distribution function of ions on periphery of BPD and on a surface of a sample subjected to etching have been carried out. On the basis of computer and physical experiments the means of control of energy and density of an ion flow have been designed. The main technical characteristics of modes of etching of heterostructures on the basis of gallium arsenide are determined. The problems of construction of the theory of BPD in a bounded system are considered.uk_UA
dc.description.sponsorshipРабота выполнена при финансовой поддержке РФФИ (гранты №04-02-97257, 07-08-00014).uk_UA
dc.identifier.citationПучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактора / Е.Г. Шустин, Н.В. Исаев, М.П. Темирязева, В.П. Тараканов, Ю.В. Федоров // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 4. — С. 169-173. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.udc533.933
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110571
dc.language.isoruuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectПлазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимияuk_UA
dc.titleПучково-плазменный разряд в слабом магнитном поле как источник плазмы для плазмохимического реактораuk_UA
dc.title.alternativeПучково-плазмовий розряд у слабкому магнітному полі як джерело плазми для плазмохімічного реактораuk_UA
dc.title.alternativeBeam plasma discharge at low magnetic field as a plasma source for a plasma processing reactoruk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
38- Shustin.pdf
Розмір:
439.6 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: