Электронные уровни конфигураций дивакансии в германии

dc.contributor.authorДолголенко, А.П.
dc.date.accessioned2017-01-09T19:55:23Z
dc.date.available2017-01-09T19:55:23Z
dc.date.issued2013
dc.description.abstractИсследованы высокоомные образцы p-Si (p₀₀=(1,63…7,09)·10¹¹ см⁻³), выращенные методом бестигельной зонной плавки, после облучения быстрыми нейтронами реактора при 320 К. Определены энергетические уровни дивакансии в германии в трех зарядовых состояниях в зависимости от её конфигурации в кремнии. Рассмотрены эксперименты, которые можно объяснить как конфигурационные переходы дивакансии с большей дисторсии в меньшую и наоборот в кремнии и германии. Приведены значения энергетических уровней дивакансии в кремнии и германии в разных конфигурациях. Показано, что у радиационных дефектов в Ge отсутствуют донорные уровни, а энергия Hubbard у дефектов такая же, как и в Si. Уровень дивакансии V₂(−/0) в Q1-конфигурации Ev+0,085 эВ определяет концентрацию дырок в валентной зоне p-Ge 2,2·10¹⁷ см⁻³ и положение уровня Ферми Ev+0,125 эВ в кластерах дефектов, созданных быстрыми нейтронами в Ge. Концентрация дефектов ~2·10¹⁸ см⁻³ в кластерах образует примесную зону около валентной зоны шириной 0,08 эВ.uk_UA
dc.description.abstractДосліджені високоомні зразки p-Si (p₀₀ = (1,63…7,09)·10¹¹ см⁻³), вирощені методом безтигельної зонної плавки, після опромінення швидкими нейтронами реактора при 320 К до і після ізохронного відпалу. Визначено у германії енергетичні рівні дивакансії в трьох зарядових станах у залежності від її конфігурації в кремнії і приведено значення енергетичних рівнів дивакансії та Е-центра. Показано, що в радіаційних дефектах у Ge немає донорних рівнів, а енергія Hubbard у дефектів така ж, як і в Si. Рівень дивакансії V₂(−/0) у Q1-конфігурації Ev+0,085 еВ визначає концентрацію дірок у валентній зоні p-Ge 2,2·1017 см-3 і положення рівня Фермі Ev+0,125 еВ у кластерах дефектів, створених швидкими нейтронами в Ge. Концентрація дефектів ~ 2·10¹⁷ см⁻³ у кластерах утворює домішкову зону біля валентної зони шириною 0,08 эВ.uk_UA
dc.description.abstractHigh-resistance samples p-Si (p₀₀ = (1.63…7.09)·10¹¹ cm⁻³), grown by the floating zone melting after irradiation with fast neutron reactor at 320 K after isochronal annealing were studied. The energy levels in germanium of a divacancy in three charge states, depending on its configuration in silicon are determined. The values of the energy levels of divacancies and E-center are resulted. Shows that radiation defects in Ge no donor levels and Hubbard energy have the same defects as in Si. Divacancy (V₂) level (-/0) Ev + 0.085 eV in Q1-configuration determines the concentration of holes in the valence band p-Ge 2.2·10¹⁷ cm⁻³ and the position of the Fermi level Ev+0.125 eV in clusters of defects produced by fast neutron in Ge. The concentration of defects ~ 2·10¹⁸ cm⁻³ in clusters form the impurity zone near the valence band of width equal 0.08 eV.uk_UA
dc.identifier.citationЭлектронные уровни конфигураций дивакансии в германии / А.П. Долголенко // Вопросы атомной науки и техники. — 2013. — № 5. — С. 37-42. — Бібліогр.: 13 назв. — рос.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.udc621.315.592.3:546.28:539.12.04
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111417
dc.language.isoruuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectФизика радиационных повреждений и явлений в твердых телахuk_UA
dc.titleЭлектронные уровни конфигураций дивакансии в германииuk_UA
dc.title.alternativeЕлектронні рівні конфігурацій дивакансії в германіїuk_UA
dc.title.alternativeElectronic configurations of the levels of divacancies in germaniumuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
05-Dolgolenko.pdf
Розмір:
448.92 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: