Hot electrons in beam-plasma discharge
dc.contributor.author | Atamanov, V.M. | |
dc.contributor.author | Biman, T.A. | |
dc.contributor.author | Elizarov, L.I. | |
dc.contributor.author | Ivanov, Al.A. | |
dc.contributor.author | Pereslavtsev, A.V. | |
dc.contributor.author | Shubin, N.N. | |
dc.date.accessioned | 2015-05-18T12:40:12Z | |
dc.date.available | 2015-05-18T12:40:12Z | |
dc.date.issued | 2000 | |
dc.description.abstract | The possibility to obtain hot electrons for the X-ray generation on the base of beam-plasma discharge in mirror magnetic trap is considered. One can obtain the hot electrons with the temperature 40 - 200 keV in beam plasma discharge in mirror magnetic trap. The experimental programme on the X-ray generation is carried out on the “Oratoria-10” installation. The view on the possible variant of the X-ray source based on beam-plasma discharge in mirror magnetic trap is given. | uk_UA |
dc.description.sponsorship | The work is supported by the European Community grant INTAS-97-094. | uk_UA |
dc.identifier.citation | Hot electrons in beam-plasma discharge / V.M. Atamanov, T.A. Biman, L.I. Elizarov, Al.A. Ivanov, A.V. Pereslavtsev, N.N. Shubin // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 1. — С. 46-49. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. | uk_UA |
dc.identifier.issn | 1562-6016 | |
dc.identifier.udc | 533.9 | |
dc.identifier.uri | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/81607 | |
dc.language.iso | en | uk_UA |
dc.publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України | uk_UA |
dc.relation.ispartof | Вопросы атомной науки и техники | |
dc.status | published earlier | uk_UA |
dc.subject | Газовый рaзряд, ППР и их применения | uk_UA |
dc.title | Hot electrons in beam-plasma discharge | uk_UA |
dc.type | Article | uk_UA |
Файли
Оригінальний контейнер
1 - 1 з 1
Завантаження...
- Назва:
- 11-Atamanov.pdf
- Розмір:
- 196.58 KB
- Формат:
- Adobe Portable Document Format
Контейнер ліцензії
1 - 1 з 1
Завантаження...
- Назва:
- license.txt
- Розмір:
- 817 B
- Формат:
- Item-specific license agreed upon to submission
- Опис: