Using of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation

dc.contributor.authorBizyukov, A.A.
dc.contributor.authorTarasov, I.K.
dc.contributor.authorChibisov, A.D.
dc.date.accessioned2023-11-28T09:52:25Z
dc.date.available2023-11-28T09:52:25Z
dc.date.issued2019
dc.description.abstractThe possibility of using a magnetic mirror in the output gap of ion source with a closed electron drift to generating of an additional gas discharge by using the electron-cyclotron resonance to compensate of the ion beam space charge is studied. The first experiments have shown that an additional microwave discharge generated in the region of the annular gap when the microwave power is applied. An additional plasma source of electrons provides the maintenance and intensification of the gas discharge in the accelerator with an anode layer.uk_UA
dc.description.abstractВивчено можливість використання пастки пробочного типу у вихідному зазорі джерела іонів із замкнутим електронним дрейфом для генерації додаткового газового розряду з використанням електронно-циклотронного резонансу та компенсації просторового заряду іонного пучка. Перші експерименти показали, що генерується додатковий НВЧ-розряд в області кільцевого зазору при подачі НВЧ-потужності. Додаткове плазмове джерело електронів забезпечує підтримку та інтенсифікацію газового розряду в прискорювачі з анодним шаром.uk_UA
dc.description.abstractИзучена возможность использования ловушки пробочного типа в выходном зазоре источника ионов с замкнутым электронным дрейфом для генерации дополнительного газового разряда с использованием электронно-циклотронного резонанса и компенсации пространственного заряда ионного пучка. Первые эксперименты показали, что генерируется дополнительный СВЧ-разряд в области кольцевого зазора при подаче СВЧ-мощности. Дополнительный плазменный источник электронов обеспечивает поддержание и интенсификацию газового разряда в ускорителе с анодным слоем.uk_UA
dc.identifier.citationUsing of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation / A.A. Bizyukov, I.K. Tarasov, A.D. Chibisov // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 124-126. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.otherPACS: 52.40.hf
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194631
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectLow temperature plasma and plasma technologiesuk_UA
dc.titleUsing of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensationuk_UA
dc.title.alternativeВикористання електронно-циклотронного резонансного розряду для компенсації об'ємного заряду в іонно-променевих розпилювальних системахuk_UA
dc.title.alternativeИспользование электронно-циклотронного резонансного разряда для компенсации объемного заряда в ионно-лучевых распылительных системахuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
32-Bizyukov.pdf
Розмір:
485.33 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: