СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.authorГригорьянц, В.В.
dc.contributor.authorДолгов, А.П.
dc.contributor.authorКочмарёв, Л.Ю.
dc.contributor.authorШилов, И.П.
dc.date.accessioned2014-01-25T21:14:57Z
dc.date.available2014-01-25T21:14:57Z
dc.date.issued2005
dc.description.abstractПредставлены результаты разработки технологии и исследования оптических характеристик высокоапертурных ПОВ на основе SiO₂-F | SiO₂ | SiO₂-F-структур, формируемых в плазме СВЧ-разряда.uk_UA
dc.identifier.citationСВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов / В.В. Григорьянц, А.П. Долгов, Л.Ю. Кочмарёв, И.П. Шилов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2005. — № 6. — С. 39-42. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.uk_UA
dc.identifier.issn2225-5818
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/53682
dc.language.isoruuk_UA
dc.publisherІнститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofТехнология и конструирование в электронной аппаратуре
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectТехнологические процессы и оборудованиеuk_UA
dc.titleСВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводовuk_UA
dc.title.alternativeНВЧ плазмохімічне осадження структур для високоапертурних планарних оптичних хвилеводівuk_UA
dc.title.alternativeMicrowave plasmochemical deposition of structures for highaperture planar optical waveguideuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
10-Grigoriants.pdf
Розмір:
195.63 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Завантажити

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити

Колекція

Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2005, № 6