Гальванические покрытия карбида молибдена, нанесенные на поверхность полупроводниковых и диэлектрических материалов из ионных расплавов

dc.contributor.authorГаб, А.И.
dc.date.accessioned2020-03-28T12:05:28Z
dc.date.available2020-03-28T12:05:28Z
dc.date.issued2009
dc.description.abstractДля получения гальванических покрытий карбида молибдена на полупроводниковых и диэлектрических материалах (алмаз, кубический нитрид бора, карбиды кремния и бора) высокотемпературным электрохимическим синтезом из солевых расплавов подобраны два состава электролитов: Na₂WO₄―MoO₃―Li₂СО₃ и KCl―NaCl―Na₂MoO₄―Na₂CO₃. Определены оптимальные условия электролиза (температура, катодная плотность тока, продолжительность процесса) для нанесения качественных сплошных покрытий. Оценены эксплуатационные свойства порошков с карбидными покрытиями.uk_UA
dc.description.abstractДля отримання гальванічних покриттів карбіду молібдену на напівпровідникових і діелектричних матеріалах (алмаз, кубічний нітрид бору, карбіди кремнію і бору) високотемпературним електрохімічним синтезом з сольових розплавів підібрано два склади електролітів: Na₂WO₄―MoO₃―Li₂СО₃ і KCl―NaCl―Na₂MoO₄―Na₂CO₃. Визначено оптимальні умови електролізу (температура, катодна густина струму, тривалість процесу) для нанесення суцільних якісних покриттів. Оцінено експлуатаційні властивості порошків з карбідними покриттями.uk_UA
dc.description.abstractFor obtaining of galvanic molybdenum carbide coatings at surface of semiconductor and dielectric materials (diamond, cubic boron nitride, silicon and boron carbides) from molten salt by high temperature electrochemical synthesis, two compositions of electrolytes were chosen: Na₂WO₄—MoO₃—Li₂СО₃ and KCl—NaCl—Na₂MoO₄—Na₂CO₃. Optimal electrolysis conditions (temperature, cathode current density, duration of process) were determined for continuous high-quality coatings deposition. Operation characteristics of powders with carbide coatings were estimated.uk_UA
dc.identifier.citationГальванические покрытия карбида молибдена, нанесенные на поверхность полупроводниковых и диэлектрических материалов из ионных расплавов / А.И. Габ // Адгезия расплавов и пайка материалов. — 2009. — Вып 42. — С. 85-89. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.uk_UA
dc.identifier.issn0136-1732
dc.identifier.udc541.135.3:666.233
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/167460
dc.language.isoruuk_UA
dc.publisherІнститут проблем матеріалознавства ім. І.М. Францевича НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofАдгезия расплавов и пайка материалов
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectПайка. Адгезионные покрытия. Адгезионные явления в технологических процессах получения материаловuk_UA
dc.titleГальванические покрытия карбида молибдена, нанесенные на поверхность полупроводниковых и диэлектрических материалов из ионных расплавовuk_UA
dc.title.alternativeGalvanic molybdenum carbide coatings onto semiconductor and dielectric materials from ionic meltsuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
09-Gab.pdf
Розмір:
159.55 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: