Анализ методов получения наноразмерных рельефных структур на поверхности носителей информации

Abstract

Представлены результаты исследований процессов получения наноразмерных рельефных структур с использованием методов неорганической лазерной фотолитографии. Показана перспективность применения неорганических фоторезистов на основе халькогенидных стеклообразных полупроводников для формирования рельефных наноструктур с размерами десятки нанометров, обобщен опыт использования неорганических фоторезистов в процессе мастеринга компакт-дисков.

Представлено результати досліджень процесів отримання нанорозмірних рельєфних структур з використанням методів неорганічної лазерної фотолітографії. Показано перспективність застосування неорганічних фоторезистів на основі халькогенідних склоподібних напівпровідників для формування рельєфних наноструктур з розмірами десятки нанометрів, узагальнений досвід використання неорганічних фоторезистів у процесі мастерингу компакт-дисків.

The results of researches of formation processes of relief nanostructures by using methods of inorganic laser photolithography are presented. It is shown that the application of inorganic photoresists on the basis of chalcogenide vitreous semiconductors for forming relief nanostructures with the sizes of tens of nanometers is promising, experience of using of inorganic photoresists in the process of CD mastering is summarized.