Modification of optical properties of tungsten exposed to low-energy, high flux deuterium plasma ions

dc.contributor.authorAlimov, V.Kh.
dc.contributor.authorBelyaeva, A.I.
dc.contributor.authorGaluza, A.A.
dc.contributor.authorIsobe, K.
dc.contributor.authorKonovalov, V.G.
dc.contributor.authorSavchenko, A.A.
dc.contributor.authorSlatin, K.A.
dc.contributor.authorSolodovchenko, S.I.
dc.contributor.authorVoitsenya, V.S.
dc.contributor.authorYamanishi, T.
dc.date.accessioned2016-01-06T17:16:20Z
dc.date.available2016-01-06T17:16:20Z
dc.date.issued2011
dc.description.abstractAnomalous change of optical properties of recrystallized W caused by exposure to D plasma ions at sample temperature of ~535 K was studied by ellipsometry and reflectometry. There is a qualitative difference between the samples reflectivity values measured directly and calculated using ellipsometric data. A physical model of the phenomenon is suggested. It is shown that on the W surface exposed at ~535 К two processes take place 1) blistering and 2) modification of electron structure in the upper-most layer.uk_UA
dc.description.abstractМетодами еліпсометрії та рефлектометрії виявлено аномальне змінення оптичних властивостей рекристалізованого W внаслідок бомбардування іонами D при температурі ~535 К. Існує принципова різниця між значеннями коефіцієнту відбиття, що отримано рефлектометрією та розраховано за даними еліпсометрії. Запропоновано фізичну модель виявленого ефекту. Показано, що на поверхні W, що опромінено при 535 К, мають місце два процеси: 1) блістерінг и 2) модифікація електронної структури поверхневого шару.uk_UA
dc.description.abstractМетодами эллипсометрии и рефлектометрии обнаружено аномальное изменение оптических свойств рекристаллизованного W в результате бомбардировки ионами D при температуре ~535 К. Имеет место принципиальное отличие между значениями коэффициента отражения, измеренными рефлектометрией и рассчитанными по данным эллипсометрии. Предложена физическая модель обнаруженного эффекта. Показано, что на поверхности W, облученного при 535 К, имеют место два процесса: 1) блистеринг и 2) модификация электронной структуры поверхностного слоя.uk_UA
dc.identifier.citationModification of optical properties of tungsten exposed to low-energy, high flux deuterium plasma ions / V.Kh. Alimov, A.I. Belyaeva, A.A. Galuza, K. Isobe, V.G. Konovalov, A.A. Savchenko, K.A. Slatin, S.I. Solodovchenko, V.S. Voitsenya, T. Yamanishi // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 1. — С. 179-181. — Бібліогр.: 13 назв. — англ.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.otherPACS: 28.52.-s, 78.68.+m, 52.40.Hf, 68.47.De
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/91070
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectДиагностика плазмыuk_UA
dc.titleModification of optical properties of tungsten exposed to low-energy, high flux deuterium plasma ionsuk_UA
dc.title.alternativeМодифікація оптичних властивостей вольфраму в наслідок опромінення великим потоком низькоенергетичних ионів дейтерієвої плазмиuk_UA
dc.title.alternativeМодификация оптических свойств рекристаллизованного вольфрама, облученного низкоэнергетическими ионами дейтериевой плазмыuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
58-Alimov.pdf
Розмір:
251.02 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: