Прибор и методы измерения параметров и степени однородности пленочных структур

dc.contributor.authorМакара, В.А.
dc.contributor.authorОдарич, В.А.
dc.contributor.authorКепич, Т.Ю.
dc.contributor.authorПреображенская, Т.Д.
dc.contributor.authorРуденко, О.В.
dc.date.accessioned2013-12-27T00:02:37Z
dc.date.available2013-12-27T00:02:37Z
dc.date.issued2009
dc.description.abstractРазработана блок-схема, изготовлен макет прибора и создан пакет автоматизированных программ для измерения показателя преломления и контроля толщины пленок в процессе изготовления пленочных структур.uk_UA
dc.description.abstractУ роботі проведено конструкторсько-технологічний аналіз схеми вимірювання еліпсометричних параметрів, розрахунку показника заломлення і товщини плівки, розроблено блок-схему і створено макет приладу для контролю однорідності плівкових структур в процесі їх виготовлення. Розроблено пакет автоматизованих програм обчислення показника заломлення і товщини плівок по зміряних еліпсометричних параметрах, які засновані на ітераційному методі вирішення рівняння еліпсометрії. Проведено апробацію приладу на прикладі визначення показника заломлення і товщини плівок CdTe і плівок HfO₂, яка показала можливість контролю однорідностіплівок як за площею, так і по товщині.·uk_UA
dc.description.abstractThe designer-technological analysis of ellipsometric parameters measuring and calculation of the film refraction index and thickness scheme is conducted in this article. The flow-chart is developed and the model of apparatus for the film refraction index and thickness measuring and control of the film structures technology making is created. Package of automated programs of the film refraction index and thicknes calculating on the measured ellipsometric parameters, based on the iteration method of decision of ellipsometry equation was developed. The approbation of device, which showed the checking feature of films homogeneity both on an area and on a thickness on the example of determination of CdTe and HfO₂ films refraction index and thickness is conducted.uk_UA
dc.identifier.citationПрибор и методы измерения параметров и степени однородности пленочных структур / В.А. Макара, В.А. Одарич, Т.Ю. Кепич, Т.Д. Преображенская, О.В. Руденко // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 3. — С. 40-46. — Бібліогр.: 12 назв. — рос.uk_UA
dc.identifier.issn2225-5818
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/52063
dc.language.isoruuk_UA
dc.publisherІнститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofТехнология и конструирование в электронной аппаратуре
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectТехнологические процессы и оборудованиеuk_UA
dc.titleПрибор и методы измерения параметров и степени однородности пленочных структурuk_UA
dc.title.alternativeПрилад і методи вимірювання параметрів і ступеню однорідності плівкових структурuk_UA
dc.title.alternativeApparatus and methods for measuring of the film structures homogeneity degreeuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
11-Makara.pdf
Розмір:
178.35 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: