Влияние примеси германия на радиационную стойкость кремния с высокой концентрацией кислорода

dc.contributor.authorДолголенко, А.П.
dc.contributor.authorГайдар, Г.П.
dc.contributor.authorВаренцов, М.Д.
dc.contributor.authorЛитовченко, П.Г.
dc.date.accessioned2017-01-08T10:11:24Z
dc.date.available2017-01-08T10:11:24Z
dc.date.issued2008
dc.description.abstractИсследована радиационная стойкость образцов n-Si, выращенных методом Чохральского (Сz), с примесью германия (NGe=2•10²⁰ cм⁻³) и без нее после облучения быстрыми нейтронами. Обнаружено, что введение германия повышает радиационную стойкость n-Si. Показано, что отжиг кластеров дефектов связан с аннигиляцией вакансионного типа дефектов в кластерах с межузельными дефектами. Определены энергия миграции и частотный фактор димежузлия (Е₁=0,74 эВ; n₁=3,5•10⁶ с⁻¹), межузельного атома (Е₂=0,91 эВ; n₂=7•10⁶ с⁻¹), а также вакансии кремния (Еv=0,8 эВ; v=1•10⁷ с⁻¹). Наблюдался g-радиационный отжиг нейтронно-облученных образцов Cz-Si n-типа.uk_UA
dc.description.abstractДосліджено радіаційну стійкість зразків n-Si, вирощених за методом Чохральського (Сz), з домішкою германію (NGe=2•10²⁰ cм⁻³) та без неї після опромінення швидкими нейтронами. Знайдено, що введення германію підвищує радіаційну стійкість n-Si приблизно в сім разів. Показано, що відпал кластерів дефектів пов'язаний з анігіляцією вакансійного типу дефектів у кластерах з міжвузловими дефектами. Визначено енергію міграції та частотний фактор диміжвузля (Е₁=0,74 еВ; n₁=3,5•10⁶ с⁻¹), міжвузлового атому (Е₂=0,91 еВ; n₂=7•10⁷ с⁻¹), а також вакансії кремнію (Еv =0,8 еВ; n=1•10⁷ с⁻¹). Розглянуто g-радіаційний відпал нейтронно-опромінених зразків Cz-Si n-типу.uk_UA
dc.description.abstractThe radiation hardness of Czochralski grown (Cz) n-type silicon samples, doped by germanium (NGe=2•10²⁰ cm⁻³) and without that, was investigated after irradiaton by fast neutrons. It was found that the introduction of germanium leaded to the increase of n-Si radiation hardness by a factor of 7. It was shown that the annealing of defect clusters is caused by the annihilation of vacancy type defects in clusters with interstitial defects. The migration energy and the frequency factor for di-interstitial (Е₁=0.74 eV; n₁=3.5•10⁶ s⁻¹), for silicon interstitial atom (Е₂=0.91 eV; n₂=7•10⁷ s⁻¹) and for vacancy (Еv =0.8 eV; n=1•10⁷ s⁻¹) were determined. The annealing of neutron-irradiated n-type Cz-Si by gamma irradiation was observed.uk_UA
dc.identifier.citationВлияние примеси германия на радиационную стойкость кремния с высокой концентрацией кислорода / А.П. Долголенко, Г.П. Гайдар, М.Д. Варенцов, П.Г. Литовченко // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 2. — С. 28-36. — Бібліогр.: 36 назв. — рос.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.udc621.315.592.3:546.28:539.12.04
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111095
dc.language.isoruuk_UA
dc.publisherІнститут ядерних досліджень НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectФизика радиационных повреждений и явлений в твердых телахuk_UA
dc.titleВлияние примеси германия на радиационную стойкость кремния с высокой концентрацией кислородаuk_UA
dc.title.alternativeВплив домішки германію на радіаційну стійкість кремнію з високою концентрацією киснюuk_UA
dc.title.alternativeThe influence of germanium dopant on radiation hardness of silicon with high oxygen concentrationuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
04-Dolgolenko.pdf
Розмір:
413.94 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:
Стаття

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: