Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.authorGoncharov, A.
dc.contributor.authorDemchishin, A.
dc.contributor.authorDobrovolskiy, A.
dc.contributor.authorKostin, E.
dc.contributor.authorPanchenko, O.
dc.contributor.authorPavlov, C.
dc.contributor.authorProtsenko, I.
dc.contributor.authorStetsenko, B.
dc.contributor.authorTernovoy, E.
dc.contributor.authorBrown, I. G.
dc.date.accessioned2015-03-25T18:45:12Z
dc.date.available2015-03-25T18:45:12Z
dc.date.issued2005
dc.description.abstractWe describe the operation of some new axially-symmetric plasma devices based on plasma-optical principles and the plasma lens configuration. Plasma devices of this kind using permanent magnets can be applied in a number of different applications for ion treatment and materials synthesis.uk_UA
dc.description.abstractОписуються деякі нові плазмові прилади, основані на використанні принципів плазмооптики та конфігурації плазмової лінзи. Прилади такого типу, що використовують постійні магніти, можуть застосовуватись для іонної обробки та отримання нових матеріалів.uk_UA
dc.description.abstractОписываются некоторые новые плазменные приборы, основанные на принципах плазмооптики и конфигурации плазменной линзы. Приборы такого типа, в которых используются постоянные магниты, могут применяться для ионной обработки и получения новых материалов.uk_UA
dc.description.sponsorshipThis works was supported by STCU #1596 and in part by STCU project #118(K).uk_UA
dc.identifier.citationPlasma devices for ion beam and plasma deposition applications / A. Goncharov, A. Demchishin, A. Dobrovolskiy, E. Kostin, O. Panchenko, C. Pavlov, I. Protsenko, B. Stetsenko, E. Ternovoy, I. G. Brown // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 1. — С.169-171. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.otherPACS: 52.50.Dg , 52.77.Dq, 52.77.Bn
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/79058
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectLow temperature plasma and plasma technologiesuk_UA
dc.titlePlasma devices for ion beam and plasma deposition applicationsuk_UA
dc.title.alternativeПлазмові прилади для використання з іонними пучками та плазмового осадженняuk_UA
dc.title.alternativeПлазменные приборы для манипулирования ионными пучками и плазменного осажденияuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
49-Goncharov.pdf
Розмір:
413.84 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Завантажити

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити

Колекція

Вопросы атомной науки и техники, 2005, № 1