Development of ribbon ion beam source and transport system for industrial applications

dc.contributor.authorMasunov, E.S.
dc.contributor.authorPolozov, S.M.
dc.contributor.authorKulevoy, T.V.
dc.contributor.authorKuibeda, R.P.
dc.contributor.authorPershin, V.I.
dc.contributor.authorPetrenko, S.V.
dc.contributor.authorSeleznev, D.N.
dc.contributor.authorShamailov, I.M.
dc.contributor.authorSitnikov, A.L.
dc.date.accessioned2017-01-10T12:51:35Z
dc.date.available2017-01-10T12:51:35Z
dc.date.issued2008
dc.description.abstractThe design of ribbon ion source and transport system is discussed in this paper. This system is created at ITEP for ion beam implantation in semiconductor technology. The Bernas type ion sources are used for ribbon ion beam production. The periodic system of electrostatic lenses is proposed for intensive ion beam transport. The results of implanter component development are observing.uk_UA
dc.description.abstractРозглядаються питання, пов'язані з розробкою стрічкового іонного пучка і системи транспортування. Система імплантації розробляється в ІТЕФ для імплантації іонного пучку у напівпровідники. Для одержання стрічкового іонного пучка використається джерело типу "Бернас". Для транспортування пучку запропоновано використати періодичну систему електростатичних лінз. Розглядаються результати розробки окремих частин імплантору.uk_UA
dc.description.abstractРассматриваются вопросы, связанные с разработкой ленточного ионного пучка и системы транспортировки. Система имплантации разрабатывается в ИТЭФ для имплантации ионного пучка в полупроводники. Для получения ленточного ионного пучка используется источник типа «Бернас». Для транспортировки пучка предложено использовать периодическую систему электростатических линз. Рассматриваются результаты разработки отдельных частей имплантора.uk_UA
dc.identifier.citationDevelopment of ribbon ion beam source and transport system for industrial applications / E.S. Masunov, S.M. Polozov, T.V. Kulevoy, R.P. Kuibeda, V.I. Pershin, S.V. Petrenko, D.N. Seleznev, I.M. Shamailov, A.L. Sitnikov // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 5. — С. 64-67. — Бібліогр.: 8 назв. — англ.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.otherPACS: 29.25.Ni, 61.72.Tt
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111482
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectФизика и техника ускорителейuk_UA
dc.titleDevelopment of ribbon ion beam source and transport system for industrial applicationsuk_UA
dc.title.alternativeРозробка джерела і системи транспортування стрічкових іонних пучків для промислових цілейuk_UA
dc.title.alternativeРазработка источника и системы транспортировки ленточных ионных пучков для промышленных целейuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
17-Masunov.pdf
Розмір:
320.94 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:
Стаття

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: