Impact of N₂+H₂ mixture plasma on carbon-containing film

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.authorVoitsenya, V.S.
dc.contributor.authorMasuzaki, S.
dc.contributor.authorMotojima, O.
dc.contributor.authorSagara, A.
dc.contributor.authorJacob, W.
dc.date.accessioned2015-05-25T16:01:19Z
dc.date.available2015-05-25T16:01:19Z
dc.date.issued2006
dc.description.abstractThe short review is done of published data on impact of plasma produced in the N₂+H₂ mixture on carbon and organic films. It is concluded that such plasma can be much more effective in cleaning of the walls of fusion devices from a carbon-based contaminating deposit in comparison with plasmas of discharges in H₂, Ar or He.uk_UA
dc.identifier.citationImpact of N₂+H₂ mixture plasma on carbon-containing film / V.S. Voitsenya, S. Masuzaki, O. Motojima, A. Sagara, W. Jacob // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 6. — С. 141-143. — Бібліогр.: 16 назв. — англ.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.otherPACS: 82.33.Xj
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/82153
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectPlasma dynamics and plasma wall interactionuk_UA
dc.titleImpact of N₂+H₂ mixture plasma on carbon-containing filmuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
39-Voitsenya.pdf
Розмір:
111.92 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:
Стаття
Завантажити

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити

Колекція

Вопросы атомной науки и техники, 2006, № 6