Влияние оксидных слоев на электрокристаллизацию бериллия в хлоридном расплаве

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.authorШаповал, В.И.
dc.contributor.authorЧукреев, Н.Я.
dc.contributor.authorПолищук, В.А.
dc.date.accessioned2022-01-21T18:13:16Z
dc.date.available2022-01-21T18:13:16Z
dc.date.issued1983
dc.description.abstractНеобходимо было исследовать влияние степени окисления поверхностных слоев подложки на зародышеобразование кристаллов при электроосаждении бериллия. Повышенная склонность его хлорида к гидролизу и исключительная способность металла к сорбции примесей и образованию прочных поверхностных соединений являются источником омической составляющей, искажающей величину кристаллизационного перенапряжения.uk_UA
dc.identifier.citationВлияние оксидных слоев на электрокристаллизацию бериллия в хлоридном расплаве / В.И.Шаповал, Н.Я. Чукреев, В.А. Полищук // Украинский химический журнал. — 1983. — Т. 49, № 8. — С. 841-845. — Бібліогр.: 12назв. — рос.uk_UA
dc.identifier.issn0041–6045
dc.identifier.udc541.135.3:541.135.52:669.725
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/182813
dc.language.isoruuk_UA
dc.publisherІнститут загальної та неорганічної хімії ім. В.І. Вернадського НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofУкраинский химический журнал
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectЭлектрохимияuk_UA
dc.titleВлияние оксидных слоев на электрокристаллизацию бериллия в хлоридном расплавеuk_UA
dc.title.alternativeThe Effect of Oxidic Layers on Beryllium Electrocrystallization in the Chloride Fusionuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
15-Shapoval.pdf
Розмір:
513.12 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Завантажити

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити

Колекція

Украинский химический журнал, 1983 (том 49), № 08