Structure and properties of TiOx and TiNxOy coatings formed in vacuum ARC plasma fluxes

dc.contributor.authorBelous, V.A.
dc.contributor.authorLunyov, V.M.
dc.contributor.authorKuprin, A.S.
dc.contributor.authorBortnitskaya, M.A.
dc.date.accessioned2019-02-19T15:07:02Z
dc.date.available2019-02-19T15:07:02Z
dc.date.issued2018
dc.description.abstractThe structure, microhardness and protective properties of titanium oxide and titanium oxynitride coatings formed in vacuum arc plasma fluxes depending on the negative potential on the substrate and the oxygen pressure, and also on the oxygen content in the gas mixture (N₂+ O₂) were studied. It is shown that titanium coatings deposited in a pure oxygen atmosphere at the pressure of 0.03 Pa represent a dispersed system of oxides in composition depends on the bias potential of the substrate. Unlike titanium oxide coatings, TiNxOy coatings are single-phase, which lattice parameter varies within the oxygen partial pressure. TiNxOy system has high microhardness (34 GPa), corrosion resistance and decorative properties of the coating deposition at optimal technological parameters.uk_UA
dc.description.abstractВивчено структура, мікротвердість та захисні властивості оксидних та оксинітридних титанових покриттів, що утворюються в потоках плазми вакуумної дуги, в залежності від негативного потенціалу на підкладці та тиску кисню, а також від вмісту кисню в газовій суміші (N₂+O₂). Показано, що титанові покриття, осаджені в атмосфері чистого кисню під тиском 3×10⁻² Па, являють собою дисперсну систему оксидів, склад яких залежить від потенціалу зміщення підкладки. На відміну від покриттів з оксиду титану покриття TiNxOy є однофазними, параметр решітки яких залежить від парціального тиску кисню. При оптимальних технологічних параметрах нанесення покриття система TiNxOy має високі мікротвердість (34 ГПа), корозійну стійкість та декоративні властивості.uk_UA
dc.description.abstractИзучены структура, микротвердость и защитные свойства оксидных и оксинитридных титановых покрытий, образующихся в потоках плазмы вакуумной дуги, в зависимости от отрицательного потенциала на подложке и давления кислорода, а также от содержания кислорода в газовой смеси (N₂+ O₂). Показано, что титановые покрытия, осажденные в атмосфере чистого кислорода при давлении 3×10⁻² Па, представляют собой дисперсную систему оксидов, состав которых зависит от потенциала смещения подложки. В отличие от покрытий из оксида титана покрытия TiNxOy являются однофазными, параметр решетки которых зависит от парциального давления кислорода. При оптимальных технологических параметрах нанесения покрытия система TiNxOy имеет высокую микротвердость (34 ГПа), коррозионную стойкость и декоративные свойства.uk_UA
dc.identifier.citationStructure and properties of TiOx and TiNxOy coatings formed in vacuum ARC plasma fluxes / V.A. Belous, V.M. Lunyov, A.S. Kuprin, M.A. Bortnitskaya // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 6. — С. 297-299. — Бібліогр.: 11 назв. — англ.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.otherPACS: 81.15.Cd, 81.15-z, 52.80.Vp, 52.77.Dq
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/149070
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectНизкотемпературная плазма и плазменные технологииuk_UA
dc.titleStructure and properties of TiOx and TiNxOy coatings formed in vacuum ARC plasma fluxesuk_UA
dc.title.alternativeСтруктура та властивості покриттів TiOx та TiNxOy, що сформовані в потоках вакуумно-дугової плазмиuk_UA
dc.title.alternativeСтруктура и свойства покрытий TiOx и TiNxOy, сформированных в потоках вакуумно-дуговой плазмыuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
76-Belous.pdf
Розмір:
511.54 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: