Метод жидкофазной эпитаксии толстых слоев
dc.contributor.author | Дранчук, С.Н. | |
dc.contributor.author | Завадский, В.А. | |
dc.contributor.author | Мокрицкий, В.А. | |
dc.date.accessioned | 2014-02-15T23:29:42Z | |
dc.date.available | 2014-02-15T23:29:42Z | |
dc.date.issued | 2013 | |
dc.description.abstract | На основе разработанной авторами модели массопереноса предложен новый метод эпитаксии толстых слоев. Метод предусматривает рост различных частей слоев в двухслойных системах, получаемых из раствора-расплава, и позволяет контролировать толщину подплавления подложек и толщину слоев, полученных на верхней и нижней подложках, с учетом различия механизмов переноса кристаллизуемого вещества. | uk_UA |
dc.description.abstract | На основі розробленої авторами моделі масопереносу запропоновано новий метод епітаксії товстих шарів. Метод передбачає вирощування різних частин шарів в двошарових системах, одержуваних з розчину-розплаву, і дозволяє контролювати товщину підплавлення підкладок і товщину шарів, отриманих на верхній та нижній підкладках з урахуванням відмінностей механізмів перенесення речовини, що кристалізується. | uk_UA |
dc.description.abstract | On the basis of the authors' model of mass transfer, a new method for thick layers epitaxy has been developed. The method provides for the growth of different parts of the layers in two-layer systems obtained from the solution-melt and allows to control the thickness of substrate submelting and the thickness of layers obtained at the upper and lower substrates, in consideration of different crystallized substance transport mechanisms. | uk_UA |
dc.identifier.citation | Метод жидкофазной эпитаксии толстых слоев / С.Н. Дранчук, В.А. Завадский, В.А. Мокрицкий // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2013. — № 2-3. — С. 58-60. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. | uk_UA |
dc.identifier.issn | 2225-5818 | |
dc.identifier.udc | 621.362:621.383 | |
dc.identifier.uri | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/56321 | |
dc.language.iso | ru | uk_UA |
dc.publisher | Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України | uk_UA |
dc.relation.ispartof | Технология и конструирование в электронной аппаратуре | |
dc.status | published earlier | uk_UA |
dc.subject | Материалы электроники | uk_UA |
dc.title | Метод жидкофазной эпитаксии толстых слоев | uk_UA |
dc.title.alternative | Метод рідиннофазної епітаксії товстих шарів | uk_UA |
dc.title.alternative | Thick layers liquid-phase epitaxy method | uk_UA |
dc.type | Article | uk_UA |
Файли
Оригінальний контейнер
1 - 1 з 1
Завантаження...
- Назва:
- 09-Dranchuk.pdf
- Розмір:
- 162.45 KB
- Формат:
- Adobe Portable Document Format
Контейнер ліцензії
1 - 1 з 1
Завантаження...
- Назва:
- license.txt
- Розмір:
- 817 B
- Формат:
- Item-specific license agreed upon to submission
- Опис: