Investigation of the influence of Ar pressure on vacuum-arc plasma with Cr-, Cu-, and Zr-cathodes
dc.contributor.author | Kovtun, Yu.V. | |
dc.contributor.author | Kuprin, A.S. | |
dc.contributor.author | Lunev, V.M. | |
dc.date.accessioned | 2023-11-29T09:13:57Z | |
dc.date.available | 2023-11-29T09:13:57Z | |
dc.date.issued | 2019 | |
dc.description.abstract | The work deals with the influence of argon pressure on the ion current of vacuum-arc discharge in the “Bulat-6” setup with Cr-Cu-Zr-cathodes, and also, on the rate of coating deposition on the surfaces being perpendicular and parallel to the plasma stream. It is shown that a substantial decrease in both the ion current density and the rate of coating deposition takes place at Ar pressure above 1 Pa. Consideration is given to the elementary processes occurring during plasma stream-gas target interaction. | uk_UA |
dc.description.abstract | Досліджено впливи тиску аргону на іонний струм вакуумно-дугового розряду в установці «Булат-6» з Cr-, Cu-, Zr-катодами, а також на швидкість осадження покриттів на поверхні перпендикулярні і паралельні плазмовому потоку. Показано, що істотні зменшення густини іонного струму і швидкості осадження покриттів відбуваються при тиску Ar вище 1 Pa. Розглянуто елементарні процеси, що відбуваються при взаємодії плазмового потоку з газовою мішенню. | uk_UA |
dc.description.abstract | Исследованы влияния давления аргона на ионный ток вакуумно-дугового разряда в установке «Булат-6» с Cr-, Cu-, Zr-катодами, а также на скорость осаждения покрытий на поверхности, перпендикулярные и параллельные плазменному потоку. Показано, что существенные уменьшения плотности ионного тока и скорости осаждения покрытий происходят при давлении Ar выше 1 Pa. Рассмотрены элементарные процессы, происходящие при взаимодействии плазменного потока с газовой мишенью. | uk_UA |
dc.identifier.citation | Investigation of the influence of Ar pressure on vacuum-arc plasma with Cr-, Cu-, and Zr-cathodes / Yu.V. Kovtun, A.S. Kuprin, V.M. Lunev // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 145-148. — Бібліогр.: 25 назв. — англ. | uk_UA |
dc.identifier.issn | 1562-6016 | |
dc.identifier.other | PACS: 52.80.-s; 52.80.Mg | |
dc.identifier.uri | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194705 | |
dc.language.iso | en | uk_UA |
dc.publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України | uk_UA |
dc.relation.ispartof | Вопросы атомной науки и техники | |
dc.status | published earlier | uk_UA |
dc.subject | Low temperature plasma and plasma technologies | uk_UA |
dc.title | Investigation of the influence of Ar pressure on vacuum-arc plasma with Cr-, Cu-, and Zr-cathodes | uk_UA |
dc.title.alternative | Дослідження впливу тиску Ar на плазму вакуумної дуги З Cr-, Cu- та Zr-катодами | uk_UA |
dc.title.alternative | Исследование влияния давления Ar на плазму вакуумной дуги С Cr-, Cu- и Zr-катодами | uk_UA |
dc.type | Article | uk_UA |
Файли
Оригінальний контейнер
1 - 1 з 1
Контейнер ліцензії
1 - 1 з 1
Завантаження...
- Назва:
- license.txt
- Розмір:
- 817 B
- Формат:
- Item-specific license agreed upon to submission
- Опис: