Simulating study of plasmachemical erosion of a-C:H films in a ECR discharge plasma

dc.contributor.authorKonovalov, V.G.
dc.contributor.authorMakhov, M.N.
dc.contributor.authorRyzhkov, I.V.
dc.contributor.authorShapoval, A.N.
dc.contributor.authorShtan’, A.F.
dc.contributor.authorSkorik, O.A.
dc.contributor.authorSolodovchenko, S.I.
dc.contributor.authorTimoshenko, A.I.
dc.contributor.authorVoitsenya, V.S.
dc.date.accessioned2016-01-06T12:03:16Z
dc.date.available2016-01-06T12:03:16Z
dc.date.issued2011
dc.description.abstractThe dynamics of interference figure of the reflection spectrum for stainless steel and copper mirrors with specially deposited carbon-containing film (ɚ-C:H) were studied when the film was gradually eroded under impact of a deuterium plasma produced in conditions of electron cyclotron resonance (ECR). The refraction coefficient of the film was estimated and the rate of the film removal was obtained.uk_UA
dc.description.abstractДосліджувалася динаміка інтерференційної картини спектру віддзеркалення сталевих і мідних дзеркал з штучно нанесеною вуглецьвмісною плівкою (a-C:H) по мірі розпилювання в дейтерієвій плазмі ЕЦР-розряду. Проведена оцінка коефіцієнта заломлення плівки. Отримана кількісна оцінка швидкості розпилювання.uk_UA
dc.description.abstractИсследовалась динамика интерференционной картины спектра отражения стальных и медных зеркал с искусственно нанесенной углеродсодержащей пленкой (a-C:H) по мере распыления в дейтериевой плазме ЭЦР-разряда. Проведена оценка коэффициента преломления пленки. Получена количественная оценка скорости распыления.uk_UA
dc.identifier.citationSimulating study of plasmachemical erosion of a-C:H films in a ECR discharge plasma / V.G. Konovalov, M.N. Makhov, I.V. Ryzhkov, A.N. Shapoval, A.F. Shtan’, O.A. Skorik, S.I. Solodovchenko, A.I. Timoshenko, V.S. Voitsenya // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 1. — С. 146-148. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.otherPACS: 52.50.Sw
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/90955
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectНизкотемпературная плазма и плазменные технологииuk_UA
dc.titleSimulating study of plasmachemical erosion of a-C:H films in a ECR discharge plasmauk_UA
dc.title.alternativeІмітаційні дослідження плазмохімічної ерозії a-C:H плівки в плазмі ЕЦР-розрядуuk_UA
dc.title.alternativeИмитационные исследования плазмохимической эрозии a-C:H плёнки в плазме ЭЦР-разрядаuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
47-Konovalov.pdf
Розмір:
191.54 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: