Влияние облучения быстрыми нейтронами на эпитаксиальный арсенид галлия

dc.contributor.authorЗавадский, В.А.
dc.contributor.authorЛенков, С.В.
dc.contributor.authorЛукомский, Д.В.
dc.contributor.authorМокрицкий, В.А.
dc.date.accessioned2014-11-13T19:27:09Z
dc.date.available2014-11-13T19:27:09Z
dc.date.issued2002
dc.description.abstractПоказана возможность управления параметрами эпитаксиальных слоев арсенида галлия с помощью радиационной обработки быстрыми нейтронами. В технологическом аспекте облучение нейтронами предлагается разделить на два вида в зависимости от дозы облучения. Первый (дозы облучения до 1·10¹⁵см⁻²) может служить средством улучшения свойств слоев: повышение подвижности носителей заряда и увеличение быстродействия. Второй (дозы облучения более 5·10¹⁵см⁻²) снижает концентрацию и подвижность носителей заряда.uk_UA
dc.description.abstractThe opportunity of control (management) of parameters of arsenide gallium epilayers with the help of radiation handling by fast neutrons is shown. In technological aspect the irradiation by neutrons as a control facility properties of arsenide gallium epilayers is offered to be divided into two aspects depending on a doze of an irradiation. The first aspect — small dozes of an irradiation up to 1·10¹⁵sm⁻² — the heightening of mobility of charge carriers and increase of speed can serve by a means of improvement of properties of stratums. The second aspect — doze of an irradiation more than 5·10¹⁵sm⁻²— decreases concentration and mobility of charge carriers.uk_UA
dc.identifier.citationВлияние облучения быстрыми нейтронами на эпитаксиальный арсенид галлия / В.А. Завадский, С.В. Ленков, Д.В. Лукомский, В.А. Мокрицкий // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2002. — № 6. — С. 7-9. — Бібліогр.: 7 назв. — рос.uk_UA
dc.identifier.issn2225-5818
dc.identifier.udc621.37/39.193:539.216:539.211
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/70797
dc.language.isoruuk_UA
dc.publisherІнститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofТехнология и конструирование в электронной аппаратуре
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectМатериалы для микроэлектроникиuk_UA
dc.titleВлияние облучения быстрыми нейтронами на эпитаксиальный арсенид галлияuk_UA
dc.title.alternativeInfluence of an irradiation by fast neutrons on properties of the epitaxial arsenide galliumuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
02-Zavadsky.pdf
Розмір:
135.07 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: