Discharge characteristics of combined low energy ion source – magnetron sputtering system

dc.contributor.authorZykov, A.
dc.contributor.authorYefymenko, N.
dc.contributor.authorDudin, S.
dc.contributor.authorYakovin, S.
dc.date.accessioned2023-11-28T13:44:34Z
dc.date.available2023-11-28T13:44:34Z
dc.date.issued2020
dc.description.abstractThe discharge characteristics of a new combined low energy magnetron-ion-source sputtering system are presented. The ignition curves, current-voltage characteristics of the system in dependence on gas pressure, magnitude and topology of magnetic field have been researched both for autonomous operation of the planar magnetron discharge and Hall type ion source in plasma mode and for their combination. Spatial distributions of ion current are also presented.uk_UA
dc.description.abstractПроведено дослідження розрядних характеристик нової комбінованої низькоенергетичної іоннопроменевої магнетронної розпорошувальної системи з питомими параметрами, які відповідають промисловому виробництву. Досліджено криві запалювання, розрядні характеристики в залежності від тиску робочого газу, величини та топології магнітного поля як при автономній, так і при сумісній роботі планарного магнетронного розряду та джерела іонів холлівського типу у плазмовому режимі. Досліджені просторові розподіли потоків іонів.uk_UA
dc.description.abstractПроведены исследования разрядных характеристик новой комбинированной низкоэнергетичной ионнолучевой магнетронной распылительной системы с удельными параметрами, отвечающими требованиям промышленного производства. Исследованы кривые зажигания, разрядные характеристики в зависимости от давления рабочего газа, величины и топологии магнитного поля как при автономной, так и при совместной работе планарного магнетронного разряда и источника ионов холловского типа в плазменном режиме. Исследованы пространственные характеристики потоков ионов.uk_UA
dc.identifier.citationDischarge characteristics of combined low energy ion source – magnetron sputtering system / A. Zykov, N. Yefymenko, S. Dudin, S. Yakovin // Problems of atomic science and tecnology. — 2020. — № 6. — С. 169-173. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.otherPACS: 52.77.-j, 81.15.-z
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/194668
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectLow temperature plasma and plasma technologiesuk_UA
dc.titleDischarge characteristics of combined low energy ion source – magnetron sputtering systemuk_UA
dc.title.alternativeРозрядні характеристики комбінованої hизькоенергетичної іонно-променевої магнетронної розпорошувальної системиuk_UA
dc.title.alternativeРазрядные характеристики комбинированной hизкоэнергетичной ионно-лучевой магнетронной распылительной системыuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
37-Zykov.pdf
Розмір:
721.07 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Завантаження...
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: