Кінетика диспергування хромових наноплівок, нанесених на оксидні матеріали, під час відпалу їх у вакуумі

Abstract

Досліджено поведінку хромових наноплівок завтовшки 150 нм, нанесених на алюмооксидну кераміку, лейкосапфір та диоксидноцирконієву кераміку та відпалених у вакуумі за температур до 1100 °С протягом різного часу (5—20 хв) за кожної температури. Виявлено, що плівки на всіх оксидах після відпалу за температур до 1000 °С поводять себе ідентично і переважно зберігають свою суцільність. З підвищенням температури відпалу до 1100 °С плівка починає інтенсивно диспергувати. Побудовано кінетичні криві розпаду плівок на всіх оксидах залежно від температури відпалу та часу витримки за кожної температури.

Исследовано поведение хромовых нанопленок толщиной 150 нм, нанесенных на алюмооксидную керамику, лейкосапфир и диоксидноциркониевую керамику и отожженных в вакууме при температурах до 1100 °С в течение разного времени (5—20 мин) при каждой температуре. Обнаружено, что пленки на всех оксидах после отжига при температурах до 1000 °С ведут себя идентично и преимущественно сохраняют свою целостность. С повышением температуры отжига до 1100 °С пленка начинает интенсивно диспергировать. Построены кинетические кривые распада пленок на всех оксидах в зависимости от температуры отжига и времени выдержки при каждой температуре.

The behavior of chromium nanofilms 150 nm thickness deposited onto alumina ceramics, leucosapphire and zirconia ceramics and annealed in vacuum at temperatures up to 1100 °C for different times (5—20 min) at each temperature was studied. It was found that films onto all oxides after annealing at temperatures up to 1000 °C behave identically and preserve their integrity predominantly. With an increase in the annealing temperature up to 1100 °С, the film begins to disperse intensively. The kinetic curves of films decomposition on all oxides are constructed depending on the annealing temperature and the exposure time at each temperature.