Refraction of microwaves in an inhomogeneous rotating plasma
dc.contributor.author | Kovtun, Yu.V. | |
dc.contributor.author | Syus'ko, E.V. | |
dc.contributor.author | Skibenko, E.I. | |
dc.contributor.author | Skibenko, A.I. | |
dc.date.accessioned | 2017-04-04T20:13:25Z | |
dc.date.available | 2017-04-04T20:13:25Z | |
dc.date.issued | 2016 | |
dc.description.abstract | The calculations of the angle of microwave ray deviation φ as a function of the angle of the ray incidence ψ on inhomogeneous plasma have shown that a part of the microwave rays may arrive at the horn antenna installed at a fixed angle relative to the plasma. The undertaken experiments have registered the microwave scattering at angles of ~ 60º and ~ 120º. The analysis of the experimental data has shown that at Np ≥ Ncr. the observed scatter is connected with the microwave ray refraction in inhomogeneous plasma | uk_UA |
dc.description.abstract | Проведены расчёты зависимости угла отклонения φ микроволнового луча от угла его падения ψ на неод- нородную плазму, которые показали, что часть микроволновых лучей может попадать в рупорную антенну, установленную под фиксированным углом по отношению к плазме. В проведенных экспериментах было зафиксировано рассеивание микроволн под углами ~ 60º и ~ 120º. Анализ экспериментальных данных пока- зал, что при Np ≥ Ncr. наблюдаемый рассеянный сигнал связан с рефракцией микроволновых лучей в неодно- родной плазме. | uk_UA |
dc.description.abstract | Проведені розрахунки залежності кута відхилення φ мікрохвильового променя від кута його падіння ψ на неоднорідну плазму показали, що частина мікрохвильових променів може потрапляти в рупорну антену, встановлену під фіксованим кутом по відношенню до плазми. У проведених експериментах було зафіксова- но розсіювання мікрохвиль під кутами ~ 60º і ~ 120º. Аналіз експериментальних даних показав, що при Np ≥ Ncr. спостережуваний розсіяний сигнал пов'язаний з рефракцією мікрохвильових променів в неоднорід- ній плазмі. | uk_UA |
dc.identifier.citation | Refraction of microwaves in an inhomogeneous rotating plasma / Yu.V. Kovtun, E. V. Syus'ko, E.I. Skibenko, A.I. Skibenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 169-172. — Бібліогр.: 15 назв. — англ. | uk_UA |
dc.identifier.issn | 1562-6016 | |
dc.identifier.other | PACS: 52.70.-m; 52.70.Gw; 52.80.Sm | |
dc.identifier.uri | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/115442 | |
dc.language.iso | en | uk_UA |
dc.publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України | uk_UA |
dc.relation.ispartof | Вопросы атомной науки и техники | |
dc.status | published earlier | uk_UA |
dc.subject | Plasma electronics | uk_UA |
dc.title | Refraction of microwaves in an inhomogeneous rotating plasma | uk_UA |
dc.title.alternative | Рефракция микроволн в неоднородной вращающейся плазме | uk_UA |
dc.title.alternative | Рефракція мікрохвиль в неоднорідній плазмі, що обертається | uk_UA |
dc.type | Article | uk_UA |
Файли
Оригінальний контейнер
1 - 1 з 1
Контейнер ліцензії
1 - 1 з 1
Завантаження...
- Назва:
- license.txt
- Розмір:
- 817 B
- Формат:
- Item-specific license agreed upon to submission
- Опис: