Импульсный плазменный катод с большой эмитирующей поверхностью

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.authorЮферов, В.Б.
dc.contributor.authorСкибенко, Е.И.
dc.contributor.authorСороковой, Л.Г.
dc.contributor.authorРыбалко, А.Н.
dc.contributor.authorТкачев, В.И.
dc.contributor.authorКосик, Н.А.
dc.contributor.authorБуравилов, И.В.
dc.contributor.authorПономарев, А.Н.
dc.contributor.authorЛукин, К.А.
dc.contributor.authorОнищенко, И.Н.
dc.date.accessioned2017-01-08T20:32:16Z
dc.date.available2017-01-08T20:32:16Z
dc.date.issued2003
dc.description.abstractПроводились эксперименты по разработке плазменного импульсного катода с большой эмитирующей поверхностью. Он создавался с помощью набора параллельно работающих многозазорных плазменных пушек. С помощью 8 мм интерферометра определена динамика плотности плазмы.uk_UA
dc.identifier.citationИмпульсный плазменный катод с большой эмитирующей поверхностью / В.Б. Юферов, Е.И. Скибенко, Л.Г. Сороковой, А.Н. Рыбалко, В.И. Ткачев, Н.А. Косик, И.В. Буравилов, А.Н. Пономарев, К.А. Лукин, И.Н. Онищенко // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 4. — С. 319-322. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.uk_UA
dc.identifier.issn1562-6016
dc.identifier.udc533.9
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111234
dc.language.isoruuk_UA
dc.publisherНаціональний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofВопросы атомной науки и техники
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.subjectПриложения и технологииuk_UA
dc.titleИмпульсный плазменный катод с большой эмитирующей поверхностьюuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
69-Iuferov.pdf
Розмір:
212.11 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Завантажити

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити

Колекція

Вопросы атомной науки и техники, 2003, № 4