К 40-летию начала исследований в области плазменных технологий в микроэлектронике на физико-техническом факультете Харьковского университета

Скорочена інформація про документ
dc.date.accessioned2016-11-14T18:28:40Z
dc.date.available2016-11-14T18:28:40Z
dc.date.issued2015
dc.description.sponsorshipИз воспоминаний В. И. Фареникаuk_UA
dc.identifier.citationК 40-летию начала исследований в области плазменных технологий в микроэлектронике на физико-техническом факультете Харьковского университета // Физическая инженерия поверхности. — 2015. — Т. 13, № 2. — С. 276-281. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.uk_UA
dc.identifier.issn1999-8074
dc.identifier.urihttps://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/108727
dc.language.isoruuk_UA
dc.publisherНауковий фізико-технологічний центр МОН та НАН Україниuk_UA
dc.relation.ispartofФизическая инженерия поверхности
dc.statuspublished earlieruk_UA
dc.titleК 40-летию начала исследований в области плазменных технологий в микроэлектронике на физико-техническом факультете Харьковского университетаuk_UA
dc.typeArticleuk_UA

Файли

Оригінальний контейнер

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
19-Anniversary.pdf
Розмір:
721.45 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Завантажити

Контейнер ліцензії

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
license.txt
Розмір:
817 B
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити

Колекція

Физическая инженерия поверхности, 2015, № 2