Юстировка пороговых напряжений в технологии БИС
Завантаження...
Дата
Автори
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Анотація
На основе H-MOS-технологии разработаны новые методы контроля малых доз ионного легирования в системной технологии микроэлектроники.
Based on H-MOS technology the process control inspection new methods of dosage concentration of doping in system technology of microelectronics have been developed.
Based on H-MOS technology the process control inspection new methods of dosage concentration of doping in system technology of microelectronics have been developed.
Опис
Теми
Технологические процессы
Цитування
Юстировка пороговых напряжений в технологии БИС / С.П. Новосядлый, Я.С. Буджак // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1999. — № 2-3. — С. 20-23. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.