Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления
Завантаження...
Файли
Дата
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Анотація
Обсуждается получение резистивных тонкопленочных конденсатов ионно-плазменным распылением металлосилицидных и керметных мишеней на установках УВН-75Р-3.
The realization of resistive thin-film condensats silicide targets by ion-plasma spraying of metalsilicide and cermet targets on ÓBH-O75P-3 sputtering plant are discussed.
The realization of resistive thin-film condensats silicide targets by ion-plasma spraying of metalsilicide and cermet targets on ÓBH-O75P-3 sputtering plant are discussed.
Опис
Теми
Технологические процессы
Цитування
Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления / Н.М. Вакив, Я.Р. Погорилко, О.И. Шпотюк // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1998. — № 3-4. — С. 26-27. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.