Комплексный импеданс скин-слоя плазменного столба, сформированного в свободном пространстве методом взрыва

Abstract

Получены аналитические выражения, описывающие частотную зависимость комплексного импеданса скин-слоя плазменного столба, созданного взрывным методом. Для расчетов активной и реактивной составляющих импеданса использованы экспериментальные характеристики плазмы.Одержано аналітичні вирази, що описують частотну залежність комплексного імпедансу скін-шару плазмового стовпа, утвореного методом вибуху. Для розрахунків активної та реактивної складових імпедансу застосовано експериментальні характеристики плазми.The analytical expressions describing the frequency dependence of complex impedance of a skin layer of a plasma jet, generated using an explosive method have been obtained. The measured characteristics of the plasma are used to calculate the resistance and reactance.