Механизм начального этапа роста пленок Cr, полученных при помощи магнетронного распыления на постоянном токе
Завантаження...
Дата
Автори
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Анотація
Методом микродифракции электронов и просвечивающей электронной микроскопии был исследован механизм образования пленок Cr, осажденных на сколы NaCl при помощи магнетронного распыления на постоянном токе. При повышении энергии конденсируемых атомов, а также при снижении скорости наращивания пленки и повышении температуры осаждения усиливается тенденция к зарождению сверхтонких пленок в виде метастабильной аморфной фазы (АФ). Переход из аморфного в кристаллическое состояние происходит в процессе наращивания пленки и при весомом вкладе диффузионных потоков в направлении АФ→кристалл.
Опис
Теми
Физика радиационных и ионно-плазменных технологий
Цитування
Механизм начального этапа роста пленок Cr, полученных при помощи магнетронного распыления на постоянном токе / В.И. Перекрестов, С.Н. Кравченко // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 4. — С. 173-175. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.