Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™

Abstract

Описаны методы оптической эмиссионной спектрометрии тлеющего ВЧ-разряда. Приведены характеристики плазмы тлеющего разряда, позволяющие выполнять эрозию поверхности с высокой скоростью.Описані методи оптичної емісійної спектрометрії тліючого ВЧ-розряду. Наведені характеристики плазми тліючого розряду, що дозволяють виконувати ерозію поверхні з високою швидкістю.Methods of optical emission spectrometry of grow HFdis charge are described. The unique characteristics of GD plasma, which allow performing very fast surface erosion, are presented.