SiC Schottky-barrier diodes formed with TiBx and ZrBx amorphous layers
Завантаження...
Дата
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Анотація
Electrical and structural properties of Schottky-barrier diodes formed with TiBx and ZrBx amorphous layers on n-6H-, 15R- and 4H-SiC (with epi-layer) were studied. High thermal stability of ideality factors and barrier heights in the formed contacts was explained by the thermal stability of an interface TiBx(ZrBx)-SiC after rapid thermal annealing at 800°N for 60 s.
Опис
Теми
Цитування
SiC Schottky-barrier diodes formed with TiBx and ZrBx amorphous layers / N.S. Boltovets, V.N. Ivanov, R.V. Konakova, Ya.Ya. Kudryk, V.V. Milenin, O.S. Lytvyn, P.M. Lytvyn, S.I. Vlaskina, O.A. Agueev, A.I. Svetlichny, S.I. Soloviev, T.S. Sudarshan // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2004. — Т. 7, № 1. — С. 60-62. — Бібліогр.: 8 назв. — англ.