Magnetically filtered vacuum-arc plasma deposition systems

Завантаження...
Ескіз

Дата

Автори

Назва журналу

Номер ISSN

Назва тому

Видавець

Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України

Анотація

This article is a brief historical review of R&D carried out by the KIPT scientists in the field of magnetic filtering of vacuum-arc plasma flows to be applied in thin film deposition technology.

Опис

Теми

Low temperature plasma and plasma technologies

Цитування

Magnetically filtered vacuum-arc plasma deposition systems / I.I. Aksenov // Вопросы атомной науки и техники. — 2002. — № 5. — С. 139-141. — Бібліогр.: 26 назв. — англ.

item.page.endorsement

item.page.review

item.page.supplemented

item.page.referenced